| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 K(?V]Mxl6
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 0ZjT.Ep
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建模任务 f![] :L
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概观 +S{m!j%B
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光线追迹仿真 :=hL}(~ ]
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 3?B1oIHQ
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•点击Go！ lW c[Q1
•获得3D光线追迹结果。 edMCj
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光线追迹仿真 J6CSu7Voa
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \r
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•单击Go！ l?) >"^
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 sR/Y v
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场追迹仿真 cgG*7E
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 igQzL*X
•单击Go！ "1gIR^S%9
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场追迹结果（摄像机探测器） P.>fkO1\
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 )vq}$W!:9
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 )$p36dWl
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 eM!Oc$C8[
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场追迹结果（电磁场探测器） \'=svJ
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 r4u ,I<ZbH
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文件信息 r } Wdj
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[attachment=89270] 1;m?:|6K{
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更多阅览 JQ
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- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ?6*\ M
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination WS&a9!3;
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（来源：讯技光电）
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