| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 [c>X Q
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 rzqCQZHL5
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[attachment=89262] CuuHRvU8
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建模任务 ge[\%
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[attachment=89263] YpNTq_S1,
概观 8c ~b7F
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[attachment=89264] Y|1kE;
光线追迹仿真 ZEApE+m
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 N %0F[sY6
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•点击Go！ w/Q'T&>b/
•获得3D光线追迹结果。 5?2PUE,a
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[attachment=89265] {){i
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光线追迹仿真 AZtZa'hbkQ
NCl={O9<j
T.&^1q WWA
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 4'_uN$${$
•单击Go！ f+gyJ#R`
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 >B~p[wh0
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场追迹仿真 8HTV"60hTs
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 (u$Q
•单击Go！ >Wy@J]Y#
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[attachment=89267] (o beEH5J
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场追迹结果（摄像机探测器） LI(Wu6*Y
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Ym0Xl(Se
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ], ' n!:>
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 pspV ~9,
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[attachment=89268] i' N
G?8,&jP~T
场追迹结果（电磁场探测器） Z&/;6[
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 JNk
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[attachment=89269] HiVF<tN
文件信息 ~M43#E[oOF
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[attachment=89270] 0y|}}92:
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更多阅览 f'R^MX2
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer QbpRSdxy`$
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Dth<hS,2J
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（来源：讯技光电）
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