| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 ?5B?P:=kl
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Yc6.v8a
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[attachment=89262] M6A0D+08
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建模任务 x%ccNP0
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[attachment=89263] pZ*%zt]-a
概观 M,kO7 g
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[attachment=89264] B:UM2Jl
光线追迹仿真 ` s+kYWg'Z
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ,gG RC p
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•点击Go！ EBL-+%J8
•获得3D光线追迹结果。 _4 nm h0q4
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光线追迹仿真 W{Z 7=
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 q=`n3+N_H~
•单击Go！ ?>V >6cDQ
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ^\`a-l^
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场追迹仿真 :O&jm.2m
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 1$C?+H
•单击Go！ :qB|~"9O
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场追迹结果（摄像机探测器） Uz rf,I[
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 *ej< 0I {
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 b nanTH9-
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 gzat!>*
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[attachment=89268]
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场追迹结果（电磁场探测器） { dRZ2U3
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 {5c?_U
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文件信息 OX]P;#4t U
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更多阅览 uCuB>x&
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer LdNpb;*
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination W+"^! p|
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（来源：讯技光电）
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