| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 wz2)seZY
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 y#SD-# I-
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概观 dXy"yQ>{
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光线追迹仿真 o ML
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 *v-xC5L1\
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•点击Go！ Kwmo)|7uPU
•获得3D光线追迹结果。 H< 3b+Sg
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光线追迹仿真 ;C@^wI
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 &Fr68HNmj
•单击Go！ nWg)zj:
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 }E] &13>r
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场追迹仿真 _z6u^#Si
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 n/|`Dz.
•单击Go！ eyp\h8!u_
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场追迹结果（摄像机探测器） JqIv&W
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 n ]g ,)m
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 W- B[_
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 |I<-x)joIK
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场追迹结果（电磁场探测器） 0X 6o
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 {Z;GNMO:
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文件信息 ~#Mx&mZ
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[attachment=89270] c3B L2>c
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更多阅览 Z* B( L@H
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Um| Tf]q
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination u{ d`
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（来源：讯技光电）
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