| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 zK~8@{l}_"
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 C`[2B0
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建模任务 Xw9]WJc
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[attachment=89263] ra*|HcLD
概观 1R8tR#l
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[attachment=89264] A[m?^vk q
光线追迹仿真 0J'^<G TL
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 5/P. 4<c7
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•点击Go！ mh"PA p
•获得3D光线追迹结果。 #9TL5-1y
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光线追迹仿真 }Y7P2W+4?
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 t8 RtJ2;
•单击Go！ ]vf_ 4QW=
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 z{3`nd,
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[attachment=89266] b)IQa,enH
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场追迹仿真 $ ) *qoV
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ^E/6 v G
•单击Go！ U Uz{Qm%
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场追迹结果（摄像机探测器） ^"<Bk<b(
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ]/h $6mrL
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 fP TLP cPP
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 _ }47U7s8
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[attachment=89268] N}/V2K]Q
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场追迹结果（电磁场探测器） &zgliT!If
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 q< .k:v&
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文件信息 7p'pz8n`X
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更多阅览 \'g7oV;>cI
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer -}xK>
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- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination n'vdA !R
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（来源：讯技光电）
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