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2018-12-10 16:56 |
VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析
摘要 Bm:N@wg {+@M! 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 1_RN*M+# d.:.f_| [attachment=89262] yT pvKCC 2y` :#e`x1 建模任务 &br_opNi nX\Q{R2 [attachment=89263] M7.
fz"M 概观 b+!I_g4P i8 fUzg) [attachment=89264] ,mm9X\ ' 光线追迹仿真 iD`>Bt7gD Ua\<oD79] •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 c,FhI~>R -$@4e|e%a •点击Go! GkYD:o=qx •获得3D光线追迹结果。 m[E#$JZtG eW.[M ?, [attachment=89265] }v$T1Cw J]mq|vE 光线追迹仿真 a/s6|ri`0 A;e0h)F$- /Zm5fw9 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 $,DX^I%! •单击Go! 6,:`esl •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 1EcXvT= >^(Q4eU7! [attachment=89266] g4CdzN~ #`Gh8n# 场追迹仿真 !Q" 3B6
86 l!9G ZW>?y$C+ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 oMer+=vH •单击Go! "F8A:tR &9,<_1~ [attachment=89267] bWOn`#+& `z]MQdE_w 场追迹结果(摄像机探测器) (%^Bp\.02! tW7*(D F G5e{ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 B}A7Usm •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 G>H',iOI Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 {<}kqn83sT ^7O,Vk"Z [attachment=89268] kTe0" {S;/+X, 场追迹结果(电磁场探测器) AroXf#. EPMdR66 %U$PcHOo •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 q9`!T4, =|G l [attachment=89269] ob3Z
I 文件信息 kH10z~(e a|\ZC\(xI [attachment=89270] |Y42ZOK0 Q?\rwnW?U 更多阅览 Nq3q##Ut: - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer j)[
wX - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination !Qd4Y= |K%nVcR=
(来源:讯技光电)
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