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xunjigd 2018-12-10 16:56

VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析

摘要 _M%S  
W/!P1M n  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 KUUA>'=  
CW &z?Bra  
[attachment=89262] o{sv<$  
&L+uu',M0c  
建模任务 1RYrUg"s"  
\N*([{X  
[attachment=89263] v.-DXQq  
概观 1l$Ei,9  
2e1KF=N+  
[attachment=89264] kP ]Up&'  
光线追迹仿真 RhE~-b[X  
W7qh1}_%  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 q*3OWr  
)@N d3Z  
•点击Go! .xsfq*3e5  
•获得3D光线追迹结果。 Jp=fLo 9  
b"h'7C/  
[attachment=89265] 2 |je{  
9=>fx  
光线追迹仿真 ]u|fLK.|  
5daq}hsQs  
q Q\j  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |3'  
•单击Go! l^lb ^"o  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 Y$=jAN  
0B`X056|"|  
[attachment=89266] R*[sO*h\k  
%\m"Yi]  
场追迹仿真  [SPx  
u.GnXuax  
n3a.)tcC  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Nc:s+ o  
•单击Go! N[e,){v  
%2}fW\% '  
[attachment=89267] &xnQLz:#  
|./mPV r  
场追迹结果(摄像机探测器) k;l3^kTy  
3Qy@^"  
<Y]LY_(  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 G!q[NRu  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ue_wuZi  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 mJSfn"b}K  
C-&ymJC|  
[attachment=89268] ax&?Z5%a  
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场追迹结果(电磁场探测器) Pxlc RF  
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VXeO}>2S  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 dHnCSOM<  
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[attachment=89269] 9kL,69d2  
文件信息 C96/   
KF. {r  
[attachment=89270] _ \D %  
c[h~=0UtJ  
更多阅览 n|i:4D  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer [X(4( 1i  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination :viW  
$^]K611w9  
(来源:讯技光电)
songshaoman 2019-01-23 10:47
一系列镜子是怎么加上去的?经验么
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