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2018-12-10 16:56 |
VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析
摘要 _M%S W/!P1M n 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 KUUA>'= CW
&z?B ra [attachment=89262] o{sv<$ &L+uu',M0c 建模任务 1RYrUg"s" \N*([{X [attachment=89263] v.-DXQq 概观 1l$Ei,9 2e1KF=N+ [attachment=89264] kP
]Up&' 光线追迹仿真 RhE~-b[X W7qh1}_% •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 q*3OWr )@N d3Z •点击Go! .xsfq*3e5 •获得3D光线追迹结果。 Jp=fLo 9 b"h'7 C/ [attachment=89265] 2|je{ 9=>fx 光线追迹仿真 ]u|fLK.| 5daq}hsQs q Q\j •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |3' •单击Go! l^lb ^"o •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 Y$=jAN 0B`X056|"| [attachment=89266] R*[sO*h\k %\m"Yi] 场追迹仿真 [SPx u.GnXuax n3a.)tcC •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Nc:s+ o •单击Go! N[e,){v %2}fW\%' [attachment=89267] &xnQLz:# |./mPV r 场追迹结果(摄像机探测器) k;l3^kTy 3Qy@^" <Y]LY_( •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 G !q[NRu •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ue_wuZi Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 mJSfn"b}K C-&ymJC| [attachment=89268] ax&?Z5%a |b 场追迹结果(电磁场探测器) Pxlc RF 9bM\ (s/
VXeO}>2S •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 dHnCSOM< p#@ #$u- [attachment=89269] 9kL,69d2 文件信息 C96/ KF.{r [attachment=89270] _ \D% c[h~=0UtJ 更多阅览 n|i:4D - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer [X(4( 1i - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination :viW $^]K611w9
(来源:讯技光电)
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