| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 ;<0LXYL;
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Mwg u9 3?
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建模任务 J)mh u}
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概观 8 EVgoJ.
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[attachment=89264] ",{ibh)g$`
光线追迹仿真 l3nrEk
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 1xv8gC:6
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•点击Go！ y^7}oH _
•获得3D光线追迹结果。 t< n"-Tqu
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光线追迹仿真 +nQw?'9Z
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 -R{V-
•单击Go！ udeoW-_
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 &CwFdx:Ff
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场追迹仿真 b* ef);
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Y'e eA 2O
•单击Go！ LL$_zK{
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场追迹结果（摄像机探测器） jSc#+_y
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :NJ(r(QG>
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Ng g?@pG0y
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 zXsc1erli
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场追迹结果（电磁场探测器） I}2P>)K
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 Su 5>$
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文件信息 HHjt/gc}`
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更多阅览 s}j1"@
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer OIl#DV.
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination T lj:%yK2
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（来源：讯技光电）
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