| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 } )O ^xF ~
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 w}VS mt$F
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建模任务 "/Fp_g6#:
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概观 1 T bY,3W
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光线追迹仿真 Szrr`.']
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ;u!qu$O
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•点击Go！ GGk.-Ew@
•获得3D光线追迹结果。 E+Z//)1Z
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光线追迹仿真 Bsi HVr
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 iLw O4i
•单击Go！ N%!8 I
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 M7{w7}B0@
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场追迹仿真 f3Ior.n(
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
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•单击Go！ so}(*E&(a
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场追迹结果（摄像机探测器） p
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 R{GOlxKs C
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 fCTdM+t
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 |F z/9+I
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场追迹结果（电磁场探测器） } eh<F^
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 x!GHUz*:uz
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文件信息 xo2PxUO
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更多阅览 Z aJg$
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ^6j: lL
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 0zfh:O
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（来源：讯技光电）
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