| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 0@#d($'1?Z
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 / D k`?
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建模任务 xSjs+Y;Mu
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概观 7I6& *I
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[attachment=89264] V ;M'd@
光线追迹仿真 gf|&u4D
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 k%cT 38V*
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•点击Go！ (Yc}V
•获得3D光线追迹结果。 !2]G.|5/A
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光线追迹仿真 %X Wb|-=
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ]3yaIlpD1
•单击Go！ [ Q20c <,
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 {UEZ:a
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场追迹仿真 V 8J!8=2
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ?bK^IH h
•单击Go！ lA7\c#
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场追迹结果（摄像机探测器） Zo36jSrCL
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
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•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 \*$''`b)j
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 |B. tBt^
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场追迹结果（电磁场探测器） `+Ojh>"*z*
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 I HtNaN )
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文件信息 8!{F6DG
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更多阅览 WfE,U=e*
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ns,qj} #
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination !Wz%Hy:ZK
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（来源：讯技光电）
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