| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 JOIbxU{U_
]='E&=nc
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ctL@&~*nY
ryq95<lF
[attachment=89262] fH7o,U|
81|Xg5g)b
建模任务 XK>/i}y
t>T |\WAAL
[attachment=89263] bG0t7~!{E
概观 ` `A=p<W
p|M 8ww
[attachment=89264] "3v[\M3
光线追迹仿真 j [h4F"`-
##!) }i
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 )[>b7K$f
ccJ@ jpXI
•点击Go！ \@4_l?M
•获得3D光线追迹结果。 8 JUUK(&Z
Nd~?kZZu
[attachment=89265] (Ia} ]q
& ;+ u.X
光线追迹仿真 j# b?P=|l
mlY0G w_e
5xi f0h-`
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +?~'K&@
•单击Go！ ]cnLJ^2
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 d" |XN{
} 06
[attachment=89266] M ,8r{[ 2
_{o=I?+]
场追迹仿真 ubIGs| p2c
.foM>UOY
b$nXljV4?
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 !c\d(u
•单击Go！ n} qHt0N
@#}9?>UV
[attachment=89267] (KHTg Z6
Gv}*T w $
场追迹结果（摄像机探测器） A}sb 2P
iZQwo3"8r
B3'qmi<
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 @M?N[LG
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 =/" Of
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 U6 "U^
N
G1]!Vz5
[attachment=89268] T"' "T]^
X
I -i)D
场追迹结果（电磁场探测器） d+%1q
50(/LV1
qu8i Jq
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 /J8AnA1
viAvD6e
[attachment=89269] FK{ YRt
文件信息 W?G4\ubM3<
=eSG7QfS
[attachment=89270] rB}UFS)
!J[3U
更多阅览 BSG_),AH
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer @dcT8 YC
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination x mTa$tR+
LGPy>, !
（来源：讯技光电）
|
|