| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 l
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 %"BJW
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建模任务 Isg\ fSK<j
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概观 e# z#bz2<
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[attachment=89264] F4 =V* /7
光线追迹仿真 4>(rskl_
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Q4F&#^02y
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•点击Go！ oR'u&\mB
•获得3D光线追迹结果。 WXe]Q bg
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光线追迹仿真 ,d$D0w
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Oz Axnd\.N
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 5odXT *n
•单击Go！ "43F.!P
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 |Jny0a/0
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场追迹仿真 0n*D](/NK
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 DIx.a^LR
•单击Go！ j}jU .\*v<
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场追迹结果（摄像机探测器） u<j.XPK
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ;%u)~3B$JK
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 : NH '>'
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 #?\|)y4i
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场追迹结果（电磁场探测器） yaX%<KBa\
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 i2Gh!5]f
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文件信息 n^epC>a" b
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[attachment=89270] W?12'EG}xa
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更多阅览 r3Ih]|FK#
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 'BEM:1)
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination SY2((!n._
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（来源：讯技光电）
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