| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 FPE[}
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 yoGe^ga r
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[attachment=89262] =kH7
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建模任务 #|k;nFJ
A&*l b7X
[attachment=89263] |b7 v(Hx
概观 NNLZ38BV7
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[attachment=89264] ;wwhW|A
光线追迹仿真 _TfG-Ae
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 %K8Ei/p\t]
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•点击Go！ f2ygN6(>
•获得3D光线追迹结果。 ~Mbo`:>(4v
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光线追迹仿真 )#n0~7
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Dg3S n|!f
•单击Go！ 1;?n]L`T
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 JJ`RF
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场追迹仿真 -9TNU7 ^
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 x O?w 8 *d
•单击Go！ x>:~=#Vi
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场追迹结果（摄像机探测器） "#1KO1@G
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 d S]TTU1
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Dx`-Kg_p
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 \) D Jo
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[attachment=89268] aVkg E>
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场追迹结果（电磁场探测器） dd1CuOd6(1
eGcc' LBr;
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 '-C%? *ku
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[attachment=89269] ?^I\e{),c
文件信息 XgR rJ.
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[attachment=89270] GF 4k
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更多阅览 U8TH} 9Q
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Mbbgsy3W
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Y ' K+O
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（来源：讯技光电）
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