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xunjigd 2018-12-10 16:56

VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析

摘要 >^g2 Tg:  
>Df; 1:U  
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ?y>ji1  
Y2l;NSWU  
[attachment=89262] )JTQZ,f3]  
nn:'<6"oV  
建模任务 ya~;Of5  
iKPgiL~  
[attachment=89263] KQ]sUNH  
概观 au50%sA~  
v^o`+~i  
[attachment=89264] fWEQ vQ  
光线追迹仿真 `W)?d I?#M  
FNLS=4  
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 l59\Lo:  
}W 5ks-L6  
•点击Go! oc,I, v  
•获得3D光线追迹结果。 LBD],Ba!  
hE=xS:6  
[attachment=89265] aeN #<M&$<  
*l =f=  
光线追迹仿真 Rjq\$aY}%  
s&V sK#  
M-h+'G  
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 m0^ "fMV  
•单击Go! J7",fb  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 iQ Xlz] '  
(SW6?5  
[attachment=89266] &D{!zF  
"TaLvworb4  
场追迹仿真 -V4{tIQY  
xP>cQELot  
)N- '~<N  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 @R`6j S_gK  
•单击Go! z0+JMZ/  
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[attachment=89267] ? Pi|`W   
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场追迹结果(摄像机探测器) 1-^D2B[-  
K!9K^h  
(Ox&B+\v+v  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 p : z ][I  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 j$_?g!I=gK  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 [N~7PNdS  
Xux[  
[attachment=89268] K!ogpd&X&  
qgl-,3GY%N  
场追迹结果(电磁场探测器) iP9]b&  
:^`j:B  
&D[M<7T  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 `T+>E0H(f  
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[attachment=89269] bf.+Ewb(  
文件信息 #FAW@6QG  
Ih5Y7<8b~  
[attachment=89270] U3B&3K} ~  
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更多阅览 a"xRc  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 3 $%#n*  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination VFZyWX@#u  
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(来源:讯技光电)
songshaoman 2019-01-23 10:47
一系列镜子是怎么加上去的?经验么
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