| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 8:huWjh]M
f]J?-ks
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 aS'G&(_
{1#5\t>9yD
[attachment=89262] GNZQj8
3-h u'xSU
建模任务 Gvt d )9^<
6:330"9
[attachment=89263] 6$%]p1"!K
概观 ZT"?W $
bpz B}nEp
[attachment=89264] K%2,z3ps
光线追迹仿真 1[} =,uaM
v\n!Li H
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 yJ/m21f
QI0ARd S
•点击Go！ 3543[W#a
•获得3D光线追迹结果。 ",#rI+ el
wAF>C[ <\
[attachment=89265] l.;y`cs
\X
Nb 9-
光线追迹仿真 AWh{dM
=y0! -y
)WwysGkqol
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 3P^eD:)
w
•单击Go！ T~ /Bf
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 c ?V,a`6
: b $
M
[attachment=89266] J4 !Z, -
ENA8o}n
场追迹仿真 Y^2Ma878
31w?bx !Pp
ugVsp&i#
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 *>$'aQ
•单击Go！ g#Zb}^
i*.Z~$
[attachment=89267] K*7*` 6iU
V=3NIw18
场追迹结果（摄像机探测器） s^L\ h r
03$Ay _ 2
oJ{)0;<~L
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 D 67H56[
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 _q3SR[k+`
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 >+#T sX{
B,e @v2jO|
[attachment=89268] _L%/NXu,
ZS^EKz~ +
场追迹结果（电磁场探测器） %do|>7MO@
}9 qsPn
SDA
+X nmH
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 1V FAfv%}
Nf<([8v;t
[attachment=89269] lJ}G"RTm
文件信息 `9zP{p
@^k$`W;
[attachment=89270] "N7C7`izc
-'] #5p l
更多阅览 hh:0m\ @<
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer i"Ct}7 i
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination &NHI X(b6
e)cmZ8~S
（来源：讯技光电）
|
|