| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 I Nca
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 JZ# O"rF
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建模任务 XA8{N
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[attachment=89263] :f^ =~#!
概观 1mT3$Z
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[attachment=89264] w+ZeVZv!r
光线追迹仿真 {J`Zl1_q
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ZA 4NVt.yN
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•点击Go！ uyr 56
•获得3D光线追迹结果。 \A
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[attachment=89265] dZnAdlJ
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光线追迹仿真 ?- ^eI!
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 &A=>x
•单击Go！ 6FMW}*6<
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 r)$(>/[$
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场追迹仿真
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 JTu^p]os?
•单击Go！ +bwSu)k
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[attachment=89267] CBC0X}_`
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场追迹结果（摄像机探测器） gC-3ghmgS
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 h
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•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 v]CH
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Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Y*-#yG 9
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[attachment=89268] 9Xw(|22
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场追迹结果（电磁场探测器） 3D3/\E#'o
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 e 5hq> K
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文件信息 !Yx 9=>R
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[attachment=89270] -LA Yj:4
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更多阅览 qx3@]9
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Y<lJj"G
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination EHBy o[
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（来源：讯技光电）
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