| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 EYRg,U&'
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 v |R#[vtFd
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[attachment=89262] V <ii
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建模任务 OK(xG3T
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概观 GmH`ipi
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光线追迹仿真 NpH9}, 1i
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 :7?n)=T x
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•点击Go！ R0u rt
•获得3D光线追迹结果。 +`7!4gxwK!
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光线追迹仿真 T m2+/qO,
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 6a704l%#hb
•单击Go！ Ok MAqS
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 bO* hmDt
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场追迹仿真 q2U?EP{8~
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
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•单击Go！ MaLH2?je^n
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场追迹结果（摄像机探测器） Bkg./iP5x
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Rm}G4Pq
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 MkWbPm)
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 !+DhH2;)F
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场追迹结果（电磁场探测器） n(.L=VuXn
`O!yt
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 PbfgWGr
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文件信息 ikO9p|J
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[attachment=89270] hxt;sQAo{
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更多阅览 `NNP}O2
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 4>/i,_&K K
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination X`fm5y
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（来源：讯技光电）
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