| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 s8'!1rHd
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 eC WF0a
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[attachment=89262] 6pt|Crvu
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建模任务 vE1:;% Q
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[attachment=89263] @4KKm@(p85
概观 Dm$SW<!l|
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[attachment=89264] Hzc}NyJ
光线追迹仿真 wp'[AR}
%_ !0V*X*
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 HR?bnkv|id
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•点击Go！ ? * r
•获得3D光线追迹结果。 ,7 m33Pv*
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[attachment=89265] 2^"! p;WQ
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光线追迹仿真 h~qv_)F_
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \gK'g-)}
•单击Go！ V|F/ynJfA
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 P)XR9&o':
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场追迹仿真 PW iuM=E
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 }eI9me@Aa
•单击Go！ B5h)F> &G
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场追迹结果（摄像机探测器） k {vd1,HZ
wDSw cNS
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Vq/hk
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 9~2iA,xs
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ttH Rc!
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~|"uuA1/#O
场追迹结果（电磁场探测器） A |@ d {g
g;OR{
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 H;@0L}Nu+}
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文件信息 T~SkFZ
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[attachment=89270] f_; tFP
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更多阅览 F9tWJJ Usr
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer p %X.$0
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ;9-J=@KY4
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（来源：讯技光电）
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