| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 b}%g}L D
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Wg( bD,
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[attachment=89262] d~<QAh#rG
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建模任务 n {=7 yK
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[attachment=89263] ycjJbL(.
概观 XTj73 MWY
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[attachment=89264] =yh3Nd:u
光线追迹仿真 DVzssP g
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 b8HE."*t
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•点击Go！ v?%3~XoH
•获得3D光线追迹结果。 qsvpW%?aE
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[attachment=89265] eKJ:?Lxv;
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光线追迹仿真 iIB9j8
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 *]'qLL7d
•单击Go！ `A"Q3sf%
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 fD(7F N8
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[attachment=89266] QmHwn)Ly
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场追迹仿真 ?k::tNv0
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 h U)'OKe
•单击Go！ Nor`c+,4
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场追迹结果（摄像机探测器） rV~ T >x
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 g#Mv&tU
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 k%^<}s@
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ]DU61Z"v?b
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[attachment=89268] $kIo4$.Y$
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场追迹结果（电磁场探测器） [='p!7 z
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 mw ?{LT
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文件信息 Yg$@ Wb6
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[attachment=89270] R|$[U
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更多阅览 }}s8D>;G~
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer [\88@B=jXP
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination X:R%1+&*
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（来源：讯技光电）
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