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2018-12-10 16:56 |
VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析
摘要 >^g2Tg: >Df;1:U 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ?y>ji1 Y2l;NSWU [attachment=89262] )JTQZ,f3] nn:'<6"oV 建模任务 ya~;Of5 iKPgiL~ [attachment=89263] KQ]sUNH 概观 au50%sA~
v^o`+~i [attachment=89264] fWEQ vQ 光线追迹仿真 `W)?d I?#M FNLS=4 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 l59\Lo: }W 5ks-L6 •点击Go! oc,I,v •获得3D光线追迹结果。 LBD],Ba! hE=xS:6 [attachment=89265] aeN #<M&$< *l
=f= 光线追迹仿真 Rjq\$aY}% s&VsK# M-h+'G •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 m0^ "fMV •单击Go! J7",fb •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 iQ
Xlz]' (S W6?5 [attachment=89266] &D{!zF "TaLvworb4 场追迹仿真 -V4{tIQY xP>cQEL ot )N- '~<N •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 @R`6jS_gK •单击Go! z0+JMZ/ >i [attachment=89267] ? Pi|`W :atd_6 场追迹结果(摄像机探测器) 1-^D2B[-
K!9K^ h (Ox&B+\v+v •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 p: z][I •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 j$_?g!I=gK Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 [N~7PNd S Xux[ [attachment=89268] K!ogpd&X& qgl-,3GY%N 场追迹结果(电磁场探测器) iP9]b& :^`j:B &D[M<7T •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 `T+>E0H(f \H>T[ [attachment=89269] bf.+Ewb( 文件信息 #FAW@6QG Ih5Y7<8b~ [attachment=89270] U3B&3K} ~ =/a`X[9vI 更多阅览 a"xRc - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 3 $%#n* - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination VFZyWX@#u ~b#<HG\,,
(来源:讯技光电)
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