| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 2["bS++?
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 E0Ig/
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建模任务 rp+&ax}Wh
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概观 ~UEft
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[attachment=89264] k7'B5zVd
光线追迹仿真 Mb"i}Yt{
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 rp{q.fy'U
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•点击Go！ _cQTQ
•获得3D光线追迹结果。 Pur~Rz\ \
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光线追迹仿真 _>S."cm}!k
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 tF+m/}PM^
•单击Go！ sy0|=E*;8"
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 PB(mUD2"r
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场追迹仿真 q5p!Ty"
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 L K-2e$1
•单击Go！ iOYC1QFi?
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场追迹结果（摄像机探测器） ^7G@CBic"
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 u!S ^lV@
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 | :7O
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 )*}2L _5]
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[attachment=89268] 7O', X Y
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场追迹结果（电磁场探测器） VEj-%"\
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 C @3a/<6m
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文件信息 ve|ig]$5g<
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[attachment=89270] 8vpB(VxV+
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（来源：讯技光电）
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