| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 OvAh p&k
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 i a7<AwV
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建模任务 4;fuS_(X
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概观 ;I&VpAPx
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光线追迹仿真 )rq |t9kix
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 #L~i|(=U5
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•点击Go！ &}r"Z?f)
•获得3D光线追迹结果。 b, Oh8O;>
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光线追迹仿真 m[^lu1\wn
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 q`VL i
•单击Go！ "j@\a)a
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 Ax;=Zh<DAv
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场追迹仿真 {_QdB;Vw H
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 TmsIyDcD~
•单击Go！ ;]u 9o}[
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场追迹结果（摄像机探测器） UFG_Z oD+
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ;2p+i/sVj
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 j3gDGw;
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 (N7 uaZ?Z
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场追迹结果（电磁场探测器） E>!=~ 7.
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 KK){/I= z
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文件信息 <+`%=r)4
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[attachment=89270] CU'JvVe3
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更多阅览 Nep4 J;
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- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination "Ms;sdjg}&
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（来源：讯技光电）
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