| xunjigd |
2018-12-10 16:56 |
VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析
摘要 >p]WCb'PH
L.IoGU xD
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 e}](6"t`5
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建模任务 ;l/}Or2
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概观 JK(`6qB>(6
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[attachment=89264] }sTH. %
光线追迹仿真 L)k b (TH
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ;1 *m} uNz
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•点击Go！ Xb(CH#*{z
•获得3D光线追迹结果。 P S _3Oq)
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光线追迹仿真 9atjK4+o
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Eu`2w%qz
•单击Go！ c W81
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 * 1 |YLy
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场追迹仿真 3iu!6lC
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 L?=#*4t
•单击Go！ fbh6Ls/
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场追迹结果（摄像机探测器） 8BYIxHHz
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 wFK: Dp_^
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 4o1 Q 7
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ]^iFqQe
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场追迹结果（电磁场探测器） /~H[= Pf
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 .@y{ )/
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文件信息 tP}Xhn`
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[attachment=89270] pY^pTWs(
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更多阅览 @PYW|*VS
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Jn@Z8%B@Z
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination I["F+kt^^
DY)D(f/&3
（来源：讯技光电）
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