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2018-09-15 12:19 |
OptiFDTD应用:用于光纤入波导耦合的硅纳米锥
介绍 (np %urx! m\}8N
u 要模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间) U60jkzIRH 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。 jBTXs5q 光源在时域中设置为CW(λ= 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。 u9:+^F+ 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果 Wx i|(} nS53mLU) [attachment=86578] #ZPU.NNT? =ca<..yh[d [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014) ):Vzv [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003); VGVZ`| *7ggw[~ 3D FDTD仿真 Gg\805L@ }nQni? 要模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间) /-.i=o]b 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。 qOusO6 光源在时域中设置为CW(λ= 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。 t~luBUF 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果 $E_9AaX T.fmEl [attachment=86579] Q
UQ"2oC Ls<.&3X2 [attachment=86580] 7^fpbrj v[aFSXGj) 仿真结果 9'qU4I fcuU,A [attachment=86581] oPX `/X# ?9_RI(a.} 顶视图展示了锥形硅波导的有效耦合。 wz,T7L GAZw4dz 底部视图显示了不同位置的模式转换(左:25 um,中间:65 um,右:103 um) Q}a,+*N. <h$Nh0 [attachment=86582] jL|y4 M<A*{@4$w& (来源:讯技光电)
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