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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   >6zWOYd  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! ?+{qmqN  
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主办:Zemax China     g3'yqIjQL  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     u&Xn#f h  
地点:上海 q+67Wc=  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   +227SPLd  
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课程安排: /T<,vR  
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成像设计 wcDb| H&  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 Zdu8axK:  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; MOP#to)k&  
材料库、镜头库介绍; JZrZDW>M  
如何定义新材料; .|J-(J<>[.  
如何使用镜头库;
MTF; -hO[^^i9  
双高斯镜头设计及优化; ^ G>/;mZ  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; 5AAPtZ\lH  
寻找最佳非球面; 4 eP-yi  
曲率套样板; z]Mu8  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; \8-PCD  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; +JBYGYN&K  
坐标断点面的使用技巧; ! lm0zR  
序列模式棱镜建模; 8:Jc2K  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; P/~kX_  
加工误差、装配误差; l`<u\],  
灵敏度分析; EAnw:yUV(  
反灵敏度分析; ?pp|~A)b  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; @I0[B<,:G  
局部优化; E{Y)=tW[  
全局优化; %-, -:e  
锤形优化; 0VlB7oF  
优化函数架构技巧; R`emI7|  
单透镜优化实例; C'//(gjQ-G  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; 2sqNTuO6,|  
投影系统设计; vWpkU<&3|  
集光系统设计;
公差评价标准; <-a6'g2y  
公差操作数; MF~Tr0tOC  
补偿变量的使用; JlN<w  
单透镜公差分析; -D30(g{O  
库克镜头公差分析; y@Ga9bI7  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   T,Zfz9{n  
实例设计及分析; :k.C|V!W  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; }Dc?Emb  
小结及答疑;
公差脚本的使用; `!iVMTp  
镜头出图、CAD出图; g_t1(g*s  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 "G @(AE(  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 ){{]3r  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; Sg}]5Mn`  
光源与探测器;
案例:背光模组; B<uUf)t  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; = ^A/&[&31  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; k'$UA$2d  
光偏振与膜层;
表面散射; Hb{G RG70  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; hA_Y@&=W  
光谱模型; :raYt5n1,y  
真彩色数据探测;
物体表面属性; Qh. : N  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; ~$3X>?Q  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   DU%j;`3  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; 8HymkL&F  
非序列系统错误排查;
体散射; %?[H=v(b  
荧光模型
PE-P(T3s[8  
MX{p)(HW  
特色:     C 9:5c@G  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     n9Xssl0  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     w- .=u3  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     89{@2TXR  
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培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     Vr=c06a2  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     w$5#jJX\  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     SecZ5(+=  
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报名方式:     MHVHEwr.{  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     s&7,gWy}BE  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   " )87GQ(R  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   zT5@wm  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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