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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   y08.R. l  
Cpz'6F^oP  
Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! nM>oG'm[n  
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主办:Zemax China     JJPU!  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     JUt 7  
地点:上海 T'"aStt6  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   Q &<:W4N*  
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L#1Y R}m  
课程安排: ! av B&Z  
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成像设计 {m.l{<H  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 @7e h/|Y,  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; LJt#c+]Li  
材料库、镜头库介绍; ]v{f!r=}  
如何定义新材料; <,$(,RX  
如何使用镜头库;
MTF; N.vt5WP  
双高斯镜头设计及优化; PbvRh~n  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; @`^+XPK\  
寻找最佳非球面; 3Un q 9  
曲率套样板; M_<O'Ii3  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; GsA/pXx  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; lTBPq?4{  
坐标断点面的使用技巧; 7O^ySy"l  
序列模式棱镜建模; SV0E7qX  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; x DD3Y{ K  
加工误差、装配误差; F[BJhN*]a  
灵敏度分析; 3(0k!o0 "  
反灵敏度分析; ^V#9{)B  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; yV,ki^^  
局部优化; U` uP^  
全局优化; ?mU 3foa  
锤形优化; h,o/(GNnW  
优化函数架构技巧; DN3#W w2[r  
单透镜优化实例; :L*"OT7(6  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; KHV5V3q4  
投影系统设计; %5Hsd  
集光系统设计;
公差评价标准; 9JYrP6I!_  
公差操作数; >77N5 >]e  
补偿变量的使用; ?f<JwF<  
单透镜公差分析; 1RpTI7  
库克镜头公差分析; PeT _Ty  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   ()a(PvEO  
实例设计及分析; |h$*z9bsf  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; 6 2GP1qH9  
小结及答疑;
公差脚本的使用; Fr_esx  
镜头出图、CAD出图; dfl| 6R  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 onL&lE  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 qDHiyg^u  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; RZ 4xR  
光源与探测器;
案例:背光模组; cVya~ *  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; ,WSK '  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; })RT2zw}  
光偏振与膜层;
表面散射; BB@I|)9O(  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; ~'>RK  
光谱模型; S81Z\=eK  
真彩色数据探测;
物体表面属性; /J!C2  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; q/w<>u  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   *W aL}i(P1  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; |`d,r.+P7  
非序列系统错误排查;
体散射; H EdOo~/~  
荧光模型
m}/LMY  
7fRL'I#[@  
特色:      t9T3e  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     ' NCxVbyYD  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     B^g+_;  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     1&N|k;#QS  
2ED^uc: 0S  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     =5=D)x~  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     .I\)1kjX  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     !9|)v7}  
i\hH .7G1  
报名方式:     DwM4/m  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     oEPO0O  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   Cx$C+  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
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       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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