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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   [V!tVDs&'o  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程，现已正式启动报名，欢迎广大新老客户报名参加！ bfO=;S]b!  
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主办：Zemax China     XM}hUJJW  
时间：成像设计：2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析：2018年09月17~19日     W`&hp6Jq  
地点：上海 TKjFp%  
讲师：Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理；Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   yBRC*0+Vy  
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课程安排： aP`P)3O6)1  
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成像设计 ;wVwX6:ZKr  
本课程为3 天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。 )jC%a6G!  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍； Ewm9\qmg  
材料库、镜头库介绍； zT[!o j7  
如何定义新材料； <ih[TtZ  
如何使用镜头库；		MTF； aoTP [Bp  
双高斯镜头设计及优化； 80;(Gt@<"  
像质评价与图像模拟；		分析工具应用； MW{8VH6+  
寻找最佳非球面； akT6^cP^  
曲率套样板； y==CT Y@  
镜头匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍； Q,9oKg  
Zemax 像差分析图谱；		坐标变换； D6^6}1WI  
坐标断点面的使用技巧； d7i]FV  
序列模式棱镜建模； Ru~j,|0r4  
扫描反射镜设计实例；		Zemax公差分析功能； ty`DJO=Omj  
加工误差、装配误差； tl].r|yl  
灵敏度分析； Z8oK2Dw  
反灵敏度分析； ]_f<kW\1*  
蒙特卡罗分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化； H.2QKws^F  
局部优化； 0RK!/:'  
全局优化； Z)\@i=m  
锤形优化； T^v}mWCZ  
优化函数架构技巧； p$>l7?h  
单透镜优化实例； [9 RR8  
双胶合优化实例；		科勒照明综合设计实例； QIgNsz  
投影系统设计； ^H' \"9;7  
集光系统设计；		公差评价标准； h} EPnC}  
公差操作数； Lk$B{2^n  
补偿变量的使用； +{U cspqM  
单透镜公差分析； {_Gs*<.  
库克镜头公差分析； hzRYec(  
分析报告查看说明；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用；   h@h!,;  
实例设计及分析； Yuc> fFA  
小结及答疑；		暗盒系统介绍； J")#I91  
小结及答疑；		公差脚本的使用； 4H-'Dr=G  
镜头出图、CAD出图； ?rup/4|  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 W T}H>T  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程，将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 l (%1jC8  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹； 9I/N4sou  
光源与探测器；		案例：背光模组； t_suF$  
复杂几何模型的建立；		转化序列模式为非序列； yOg+iFTr  
杂散光分析入门；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础；CAD导入与导出； ^BL"wk  
光偏振与膜层；		表面散射； 5BJmA2L  
案例：Maksutov望远镜杂散光分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型； N&V`K0FU  
光谱模型； ,=mS,r7  
真彩色数据探测；		物体表面属性； W,-g=6,  
光线分裂；		非序列模式鬼像分析； IkXx# )  
散射指向性与重点采样；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化：反射抛物面；   -Vhw^T1iV  
优化：位图文件优化；		非序列系统设置； p[lA\@l[  
非序列系统错误排查；		体散射； rc>6.sM %  
荧光模型
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特色：      v<:R#  
Ÿ  互动式案例教学，理论实例相结合，指导实际软件操作练习；     (Clkv  
Ÿ  原厂正版全新教材，提供使用最新版软件最高版本；      gRT00  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书；     PJ'E/C)i  
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培训费用（RMB）：成像设计：5980元/人     |     照明设计与杂散光分析：5980元/人     K}U-w:{  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票；     /[>sf[X\I9  
Ÿ  开具6%的增值税发票，开票名称：Zemax技术服务费。     C\/L v.  
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报名方式：     CWP2{  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至：china@zemax.com；我们收到邮件后会立即联系您。     t@Nyr&|D  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线：021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   E\2%E@0#  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
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       Zemax销售支持热线：+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线：+86 21 6271-3255
中文支持邮箱：china@zemax.com
地址：上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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