首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> 【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   *KiY+_8>  
<?L5bhq  
Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! Yc~lYz+b  
U1/ww-!Z  
主办:Zemax China     9fTl6?x  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     4, Vx3QFZ  
地点:上海 U61 LMH  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   Xa ;wx3]t  
IQ~Anp^R  
1B&XM^>/  
课程安排: &,Loqr  
&6Lh>n(  
成像设计 A(BjU:D(Oj  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 S{]3e-?  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; g26_#4 P  
材料库、镜头库介绍; zp'hA  
如何定义新材料; _(io8zqe{j  
如何使用镜头库;
MTF; $/JXI?K  
双高斯镜头设计及优化; fo/sA9  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; <~v4BiQ3l^  
寻找最佳非球面; u| "YS-dH  
曲率套样板; @raJB'  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; 7oUo[  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; F/tRyq`D  
坐标断点面的使用技巧; Sa.nUj{M=  
序列模式棱镜建模; Zg4wd/y?  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; gwg~4:W  
加工误差、装配误差; .9g :-hv  
灵敏度分析; .Q@]+&`|}i  
反灵敏度分析; F`,bFQ  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; eDNY|}$}v  
局部优化;  k 6@  
全局优化; LSXsq}  
锤形优化; PV=sqLM~  
优化函数架构技巧; _:Y| a>  
单透镜优化实例; :AuKQ`c  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; .S=|ZP+  
投影系统设计; 3qNuv];2  
集光系统设计;
公差评价标准; UaQW<6+  
公差操作数; ]PL\;[b>  
补偿变量的使用; *?Wr^T  
单透镜公差分析; xZV|QVY;  
库克镜头公差分析; z [u!C/  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   /Q#eP m  
实例设计及分析; AtAu$"ue  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; >oEFuwE  
小结及答疑;
公差脚本的使用; /9P7;1?  
镜头出图、CAD出图; 7Ot&]M  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 Sv>CVp*  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 m<cv3dbZo  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; 9 v ,y  
光源与探测器;
案例:背光模组; w`#9Re  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; L!ms{0rJ  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; i#4E*B_-  
光偏振与膜层;
表面散射; a~-k} G5  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; wn<k "6x  
光谱模型; %,Y^Tp  
真彩色数据探测;
物体表面属性; K3rsew n  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; z!k  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   Nlc3S+$`z  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; P{2ED1T\  
非序列系统错误排查;
体散射; DC$> 5FDv  
荧光模型
vsI|HxpyC,  
0\"]XYOH  
特色:     8N#.@\'kz.  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     #Wv8+&n  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     oMq:4W,  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     |oR{c%z05  
sN1I+X  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     # .OCoc  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     $B%3#-  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     8D^ iQBA  
b|@f!lA  
报名方式:     $KGRpI  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。      {qH+S/  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   Q 9JT6  
cI <T/~P  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   OF! n}.O(  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
查看本帖完整版本: [-- 【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计