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zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   *I%r   
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程，现已正式启动报名，欢迎广大新老客户报名参加！ W7.O(s,32  
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主办：Zemax China     c_clpMx=  
时间：成像设计：2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析：2018年09月17~19日     {`QF(WL  
地点：上海 Oh6_Bci  
讲师：Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理；Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   `q* 0^}  
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课程安排： *- $u\?$  
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成像设计 mNN,}nHu  
本课程为3 天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。 dVc;Tt  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍； BF8n: }9U  
材料库、镜头库介绍； hu~02v5  
如何定义新材料； FQNhn+A  
如何使用镜头库；		MTF； iKv`[k  
双高斯镜头设计及优化； _?<Y>B, E  
像质评价与图像模拟；		分析工具应用； r5Ej  
寻找最佳非球面； WS9n.opl}  
曲率套样板； w8:F^{  
镜头匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍； Hb 'fEo r  
Zemax 像差分析图谱；		坐标变换； )|,-l^lC  
坐标断点面的使用技巧； Ht? u{\p@  
序列模式棱镜建模； pC(AM=RY!  
扫描反射镜设计实例；		Zemax公差分析功能； &RRggPx"k  
加工误差、装配误差； l|O^yNS  
灵敏度分析； "BjQs<]%sF  
反灵敏度分析； ^|xj.  
蒙特卡罗分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化； ]W<E#^  
局部优化； EA7]o.Nm*{  
全局优化； GJWC}$#T Y  
锤形优化； A> +5~u  
优化函数架构技巧； 5Zs"CDU  
单透镜优化实例； A}C&WT~  
双胶合优化实例；		科勒照明综合设计实例； -aG( Yx  
投影系统设计； }#z E`IT  
集光系统设计；		公差评价标准； ?"+' OOqik  
公差操作数； nkHr(tF 7  
补偿变量的使用； 2#_9x7g+  
单透镜公差分析； F`8A!|cIy  
库克镜头公差分析； acB,u&  
分析报告查看说明；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用；   S$W *i@x?  
实例设计及分析； 9 pE)S^P  
小结及答疑；		暗盒系统介绍； Q nZR  
小结及答疑；		公差脚本的使用； g_;5"  
镜头出图、CAD出图； ^i&Qr+v  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 %r6LU<;1@  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程，将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 %#Wg>6  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹； Zm%}AzM  
光源与探测器；		案例：背光模组； ~U*2h =]  
复杂几何模型的建立；		转化序列模式为非序列； 5{ #9b^  
杂散光分析入门；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础；CAD导入与导出； N rVQK}%K  
光偏振与膜层；		表面散射； (~-q}_G;Q  
案例：Maksutov望远镜杂散光分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型； o]n5pZ\\W<  
光谱模型； mDip P  
真彩色数据探测；		物体表面属性； SynxMUlA  
光线分裂；		非序列模式鬼像分析； GEA@AD=^f  
散射指向性与重点采样；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化：反射抛物面；   ':[+UUC@  
优化：位图文件优化；		非序列系统设置； v0X5`VV  
非序列系统错误排查；		体散射； ^]'p927  
荧光模型
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 0'^? m$  
特色：     ~J)4(411  
Ÿ  互动式案例教学，理论实例相结合，指导实际软件操作练习；     \ :})R{  
Ÿ  原厂正版全新教材，提供使用最新版软件最高版本；     kSU*d/}*u  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书；      _+|*  
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培训费用（RMB）：成像设计：5980元/人     |     照明设计与杂散光分析：5980元/人     <WaiJy?  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票；     ~/3cQN^  
Ÿ  开具6%的增值税发票，开票名称：Zemax技术服务费。     g%j z,|  
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报名方式：     tl;?/  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至：china@zemax.com；我们收到邮件后会立即联系您。     K!|=)G3.`  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线：021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   W$gSpZ_7  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   PG<N\  
       Zemax销售支持热线：+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线：+86 21 6271-3255
中文支持邮箱：china@zemax.com
地址：上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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