首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> 【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

zemax官方 2018-07-30 17:16

【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   ?\ho9nyK  
2\EMtR>.M'  
Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程，现已正式启动报名，欢迎广大新老客户报名参加！ -kQ{~"> w  
0~an\4nh  
主办：Zemax China     . +.Y`0  
时间：成像设计：2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析：2018年09月17~19日     `9b D%M  
地点：上海 ) 1H]a'j  
讲师：Heng Li —— Zemax 亚太区工程经理；Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   b$.N8W%  
[dOPOA/d  
 p]=8=pE<  
课程安排： gy9!T(z  
o8Q(,P  
成像设计 -pa.-@  
本课程为3 天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。 r(i<H%"Z  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍； U/|B IF  
材料库、镜头库介绍； j0:F E  
如何定义新材料； NTgk0cq  
如何使用镜头库；		MTF； gt{ei)2b  
双高斯镜头设计及优化； hMi!H.EX.  
像质评价与图像模拟；		分析工具应用； n'%*vdHK m  
寻找最佳非球面； pEhWgCL  
曲率套样板； K6!`b( v#  
镜头匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍； &k : |  
Zemax 像差分析图谱；		坐标变换； ?ew^%1!W.  
坐标断点面的使用技巧； /Hx%gKU  
序列模式棱镜建模； nSgg'I(  
扫描反射镜设计实例；		Zemax公差分析功能； C+-~Gmrb(7  
加工误差、装配误差； X+bLLW>&  
灵敏度分析； OuS{ve  
反灵敏度分析； 6mMJ$FY+  
蒙特卡罗分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化； !=q {1\#  
局部优化； 7d'4"c;*;  
全局优化； VaSw}q/o:/  
锤形优化； 49Ht I9@  
优化函数架构技巧； ?#slg8[  
单透镜优化实例； v%86JUlK.  
双胶合优化实例；		科勒照明综合设计实例； 1pO ;aG1O  
投影系统设计； o.}^6.h"  
集光系统设计；		公差评价标准； 5\EHu8  
公差操作数； IO]Oo3  
补偿变量的使用； QF[9Zn  
单透镜公差分析； w&:h^u  
库克镜头公差分析； YM+}Mmu  
分析报告查看说明；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用；   -^\k+4;  
实例设计及分析； zXUE<\  
小结及答疑；		暗盒系统介绍； }u:^Mz  
小结及答疑；		公差脚本的使用； hiU_r="*ox  
镜头出图、CAD出图； otX#}} +  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 )k29mqa`  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程，将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 k 2;m"F  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹； POUB{ba  
光源与探测器；		案例：背光模组； YJeZ{Wws  
复杂几何模型的建立；		转化序列模式为非序列； gjyg`%  
杂散光分析入门；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础；CAD导入与导出； .B#Lt,m  
光偏振与膜层；		表面散射； owYfrf3ZLX  
案例：Maksutov望远镜杂散光分析；
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型； k_O"bsI)  
光谱模型； pPG!{:YT  
真彩色数据探测；		物体表面属性； ;$[o7Qm5r  
光线分裂；		非序列模式鬼像分析； :Q$3P+6a  
散射指向性与重点采样；
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化：反射抛物面；   y%E R51+  
优化：位图文件优化；		非序列系统设置； Ob0=ZW`+&  
非序列系统错误排查；		体散射； %z8@;  
荧光模型
De:w(Rm  
 jnH44  
特色：     Ldir'FW  
Ÿ  互动式案例教学，理论实例相结合，指导实际软件操作练习；     4B (*{  
Ÿ  原厂正版全新教材，提供使用最新版软件最高版本；     /1n}IRuw  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书；     <uv{/L b  
>SfC '*1  
培训费用（RMB）：成像设计：5980元/人     |     照明设计与杂散光分析：5980元/人     Arfq  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票；     Dtd bQF  
Ÿ  开具6%的增值税发票，开票名称：Zemax技术服务费。     -uO< ]  
%%f=aPw  
报名方式：     -x RsYYw  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至：china@zemax.com；我们收到邮件后会立即联系您。     C f+O7Y`^  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线：021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   Vk-_v5  
!.F\v .  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   [Y:HVr,  
       Zemax销售支持热线：+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线：+86 21 6271-3255
中文支持邮箱：china@zemax.com
地址：上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
查看本帖完整版本: [-- 【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计