基于面光源的光学元件热分析

问个问题，我设计了一个面光源，给他定义了40w，想计算一下我的光学元件的受热分析
不知道tracepro怎么实现，为什么我改变光源的瓦数，强度图没有变化呢
还有就是，光学元件在没有光照射的时候应该保持环境温度吧，当有光入射时，光学元件的温度也应该是随时间变化的吧，在tracepro中能不能实现，怎样实现呢
希望有人能回答我，多谢

flashcat	2005-10-21 10:52
改变光源瓦数变化,虽然强度图没有变,但是数据应该变了.你可以改变光线条数,看看. )AvN\sC 要进行热分析比较麻烦吧,没有做过,估计要使用温度分布方面的设置吧.

arkshell

2005-10-21 10:53

受热分析，在TP里面只有分析光学元件的面了——通过这些面收集到的光线的信息。。。

改变瓦数而不改变光学结构，那么结构的光学规律也没改变，所以强度图的分布依然不变，只是数字改变了。。。

TP里面没有时间参数，它的模拟只是一个描光的过程，得到的模拟结论只是在描光模拟完成的瞬间的结果，或是一个持续稳定发光的结果。。。

kuailezj	2005-10-21 11:37
那它显示的图形是指系统稳定后，还是稳定前的一个瞬间呢

arkshell	2005-10-21 15:44
稳定后的，但是这个图形与其实与实际的结果还是有一些误差的，这取决于光线的数目，因为TP自动把光源的能量分配到每条光线，因此描光数量越多误差越小。

kuailezj	2005-10-21 18:32
谁能帮我详细的解释一些从下面图中都能看出我的光学系统的什么特点呀

arkshell

2005-10-22 08:30

下面是引用kuailezj于2005-10-21 18:32发表的: u04kF^
谁能帮我详细的解释一些从下面图中都能看出我的光学系统的什么特点呀

这是该光学系统在整个空间的发光强度随空间角度变化的分布图，下边曲线的顶点即为光强最大的地方，对应一个偏离发光法向的角度；不同颜色的曲线表示在发光法向取不同的旋转角度的平面，这些平面通过该光源法线，在该平面上以法线为基准测得的空间180度光强分布。

kuailezj	2005-10-22 15:35
那就我这个图来说，我这个光学系统是好还是不好呢 ;n*.W\|Uph 为什么效率那么少呢，增加光线的数量好像也没什么变化，还有没有其他方法提高效率呢 6d<r= C= 这个效率指的是什么效率呢 qN9(S:_Px 谢谢

arkshell

2005-11-03 17:23

下面是引用kuailezj于2005-10-22 15:35发表的: 61C7.EZZ;
那就我这个图来说，我这个光学系统是好还是不好呢 Rq'S>#e
为什么效率那么少呢，增加光线的数量好像也没什么变化，还有没有其他方法提高效率呢 *v^Jb/E315
这个效率指的是什么效率呢 |"8b_Cq{
谢谢

好不好要看模拟的结果是否符合你预期的设计。

效率？

huopi	2010-05-01 12:46
楼主辛苦，谢谢分享

asm

2010-05-01 18:01

引用第7楼kuailezj于2005-10-22 15:35发表的 : @1roe G
那就我这个图来说，我这个光学系统是好还是不好呢 GY'%+\*tj
为什么效率那么少呢，增加光线的数量好像也没什么变化，还有没有其他方法提高效率呢 Ko<:Z)PS
这个效率指的是什么效率呢 `,<BCu
谢谢 D0-3eV-

这个结果不说明任何问题，没有目标，没有设计预期，没有评价标准，无法评价

光线增加可以减小统计误差，你的系统没有任何变化。但是仍然建议增加光线数量，这幅图里面一共统计了11条光线，你一定是用的很强的smoothing，说明不了什么问题

提高效率的方法永远存在，但是只能说具体情况具体分析，如果我说有个永远正确的方法，那么那个方法肯定是没有用的

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