光刻未来5~10年的主要方向

193nm投影光刻是未来5~10年大规模集成电路工业化生产的主要方法. 投影物镜作为光刻机的核心分系统,其光机系统关键技术的研究进展直接影响物镜整体性能的提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方法,指导高成像质量物镜的制造。

zcp12121212	2018-05-21 10:42
了解下 @gd-lcMYW

聊地哼	2018-05-30 16:49
了解光学知识阿布

shima668	2018-06-07 11:53
了解光学知识阿布

345411525	2018-06-12 14:42
谢谢楼主

yanzhiyan	2018-10-11 16:40
了解一下

cyibao

2018-10-12 17:09

提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方

yangpaopao	2018-10-18 16:35
学习一下，只做过照明系统，投影物镜没做过

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