斜光栅的高级配置

摘要

VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。

介质目录中的斜光栅介质

 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。

斜光栅介质的编辑对话框

 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
 首先，光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。
 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过折射率定义。
斜光栅介质的编辑对话框 e$LC
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 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。
 以下参数可用：
- 填充率（定义光栅的上部分和下部分）
- z扩展（沿着z方向测量光栅高度）
- 倾斜角度左（脊左侧的倾斜角）
- 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角）

如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。

斜光栅介质的编辑对话框

 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。
 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。

斜光栅介质的编辑对话框

 首先，必须选择涂层材料。
 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。
 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。

斜光栅的编辑对话框 u?V}pYX
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 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。
 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。

堆栈使用的评论 V;^-EWNj
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 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。
 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。
 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。
 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。

斜光栅介质的采样配置

斜光栅介质采样

 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。
 在右边，显示了介质的预览。
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。

采样斜光栅#1

采样斜光栅#2

采样斜光栅#3

采样斜光栅#4

文档信息

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