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讯技david 2018-04-10 15:53

斜光栅的高级配置

摘要 k1w_[w [  
OK[T3/v,  
VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 60P#,o@G  
S%bCyK%p  
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介质目录中的斜光栅介质 G18F&c~  
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Dv|#u|iw  
 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 bLlKe50  
 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 K0-ypU*P  
"+kL )]  
斜光栅介质的编辑对话框 2D75:@JL}|  
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 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 w~(1%p/  
 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 Wvbf"hq  
 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 *w^C"^*  
斜光栅介质的编辑对话框 S^-DK~Xt4  
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]NUl9t*N4  
 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 5b*M*e&=C  
 以下参数可用: ]RPs|R?  
- 填充率(定义光栅的上部分和下部分) 'n{Nvt.c  
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度) `|6'9  
- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) :o|\"3  
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) ykl .1(  
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如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 ^V?<K.F  
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斜光栅介质的编辑对话框 OVm\  
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 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 *,e:]!*  
 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 kE:nsXI )  
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斜光栅介质的编辑对话框 (\\eo  
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 首先,必须选择涂层材料。 9{RB{<Se!  
 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 8K.R=  
 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 HBy[FYa4  
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斜光栅的编辑对话框 p2ogn}`  
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O[I\A[*  
 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 \#f <!R4  
 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 0+?7EL~  
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堆栈使用的评论 + fC=UAZ  
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Sm)Ha:[4  
iI\oz&!vH  
 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 /JFUU[W  
 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 Zo|.1pN  
 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 419x+3>}  
 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ]Y%Vio  
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斜光栅介质的采样配置 ukIQr/k  
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斜光栅介质采样 /q<__N  
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[Yo,*,y31  
 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 Rtb7|  
 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 le1}0 L  
 在右边,显示了介质的预览。 %6t2ohO"  
 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ix([mQg  
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采样斜光栅#1 **$LR<L  
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采样斜光栅#2 oE+R3[D?r  
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采样斜光栅#3 =osv3>&q  
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采样斜光栅#4 e8pG"`wM8  
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文档信息 jF0jkj1&/[  
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