首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 高反膜机差问题 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

dcfcwdx 2018-01-25 12:09

高反膜机差问题

求助大神,LED芯片背镀DBR高反膜,同样的膜系,不同的光驰新旧机台作业后亮度有差异,到底是什么造成的??
奔跑的小骏马 2018-01-29 09:51
DBR是什么意思啊?你做的高反膜是用的啥膜料?
dcfcwdx 2018-01-29 11:29
奔跑的小骏马:DBR是什么意思啊?你做的高反膜是用的啥膜料? (2018-01-29 09:51)  \IbGNV`q  
B)O{+avu  
氧化硅和氧化钛
rexchou 2018-02-01 17:43
有試著量測表面粗糙度嗎(使用AFM之類的) r'#5ncB  
Lf{9=;  
若有差異,可能要比對一下背景壓力、鍍率等等 h.E8G^}@  
T$)&8"Xya  
rexchou 2018-02-01 17:46
奔跑的小骏马:DBR是什么意思啊?你做的高反膜是用的啥膜料? (2018-01-29 09:51)  7ESSx"^B  
vVQwuV  
鍍膜的DBR就是介電質的反射鏡 Y S/x;  
9+H C!Uot  
主要利用高低折射率1/4波長去堆疊而成 P0VXHE1p  
f 1s3pr??  
會依照每個客戶針對的波長去做設計 U:"X *  
vqO d`_)  
可應用在LED 激光 等等
ouyuu 2018-02-02 09:16
怀疑是排气能力差异。 ])F*)U  
开镀真空一样吗?都开充氧了吗?充氧压力多少?
dcfcwdx 2018-02-03 08:19
好的,谢谢~
dcfcwdx 2018-02-03 08:21
开镀真空一样,充氧压力为1.93E-2Pa
ouyuu 2018-02-03 18:13
如果有空的话,两台机各镀一下单层,然后测一下PEAK比对一下。 UMtnb:ek  
一般SiO2折射率比较稳定,既然有充氧,吸收也不太会有问题。 IAyyRl\  
问题很可能出在TiO2上。TiO2的折射率和吸收不太稳定。 O|%03q(  
dcfcwdx 2018-03-03 22:41
ouyuu:如果有空的话,两台机各镀一下单层,然后测一下PEAK比对一下。 -6W$@,K  
一般SiO2折射率比较稳定,既然有充氧,吸收也不太会有问题。 4Sz2 9\X  
问题很可能出在TiO2上。TiO2的折射率和吸收不太稳定。 \h>6k  
 (2018-02-03 18:13)  Y sDai<  
Z-j?N{3&  
单层的PEAK对比过,确实是有差异的,关键是怎样调节折射率和吸收呢?
dcfcwdx 2018-03-03 22:44
ouyuu:怀疑是排气能力差异。 E#A}2|7,g  
开镀真空一样吗?都开充氧了吗?充氧压力多少? (2018-02-02 09:16)  pxI[/vS N  
v8 II=9  
开镀真空一样,都是2E-3Pa,都开充氧了,目前最主要问题是稳定性不好,有些Run次镀出来是OK的,有些就不好,不知道是哪里造成的稳定性差
ouyuu 2018-03-06 13:05
dcfcwdx:[表情]单层的PEAK对比过,确实是有差异的,关键是怎样调节折射率和吸收呢? (2018-03-03 22:41)  BA9;=orx  
CX7eCo  
是什么差异呢?整体向上偏移?还是波峰更高,波谷更低? 5r0Sl89J  
如果是吸收,那就改善充氧。 EkOn Rm_hn  
如果是折射率差异,那就改变蒸发速率。 oMxpdG3y-  
dcfcwdx 2018-03-13 20:40
ouyuu:是什么差异呢?整体向上偏移?还是波峰更高,波谷更低? SU4~x0  
如果是吸收,那就改善充氧。 K st2.Yy  
如果是折射率差异,那就改变蒸发速率。 Z?'?+48xv4  
 (2018-03-06 13:05)  B 3eNvUFZg  
-:V2Dsr6;  
镀TiO2单层来比较是,较差的机台的波峰低,波谷高,也就是峰谷差小,还有,改善充氧就是改变APC压力吗?
ouyuu 2018-03-15 23:35
dcfcwdx:镀TiO2单层来比较是,较差的机台的波峰低,波谷高,也就是峰谷差小,还有,改善充氧就是改变APC压力吗? (2018-03-13 20:40)  L3X[; |v}  
,9ZN k@q  
看起来像是折射率问题。 1)h+xY  
你这边用离子源辅助吗? MXuiQ;./  
如果有,就改变一下离子源参数 btU:=6  
如果没有,就改一下电子枪速率看看。
奔跑的小骏马 2018-03-23 11:51
ouyuu:看起来像是折射率问题。 R7d45Wl  
你这边用离子源辅助吗? ]J7.d$7T  
如果有,就改变一下离子源参数 |\MgE.N  
如果没有,就改一下电子枪速率看看。 (2018-03-15 23:35)  Th)Z?\8zk  
J M,ndl  
既然是折射率差异,那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么;如果要变更速率,那折射率不也一样跟着变了,变量不就多了么。
yifeng602 2018-03-26 07:02
&I$MV5)u  
机台不一样,折射率是有差异的,这个差异在镀膜厚是就明显
ouyuu 2018-03-27 09:23
奔跑的小骏马:既然是折射率差异,那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么;如果要变更速率,那折射率不也一样跟着变了,变量不就多了么。 (2018-03-23 11:51)  Hq*\,`b&  
L:ox$RU  
一般不建议改膜系,膜系不一致会带来更多问题。 ;ctJ9"_g  
而且随着设备使用,说不定折射率还会变的,你就不停改膜系? YnzhvE  
折射率则简单很多,找到影响折射率的因素这才是关键。 Oist>A$Z  
69{BJ] q  
其实也不叫变更速率,水晶设置有一项叫TOOLING,这个TOOLING值改变一下就相当于改了速率。
qinshuai 2019-01-09 15:04
现在膜系成熟了没有??
查看本帖完整版本: [-- 高反膜机差问题 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计