高反膜机差问题-光学薄膜设计,工艺与设备-光行天下-最大的光电技术社区-光学,光电,光机技术及其软件运用交流社区!

首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题

光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 高反膜机差问题 [点此返回论坛查看本帖完整版本]

[打印本页]

dcfcwdx	2018-01-25 12:09
高反膜机差问题求助大神，LED芯片背镀DBR高反膜，同样的膜系，不同的光驰新旧机台作业后亮度有差异，到底是什么造成的？？

奔跑的小骏马	2018-01-29 09:51
DBR是什么意思啊？你做的高反膜是用的啥膜料？

dcfcwdx	2018-01-29 11:29
奔跑的小骏马:DBR是什么意思啊？你做的高反膜是用的啥膜料？ (2018-01-29 09:51) <:n!qQS6 B~CdY}UTsj 氧化硅和氧化钛

rexchou	2018-02-01 17:43
有試著量測表面粗糙度嗎(使用AFM之類的) iBM;$0Y FI(iqSJ6 若有差異，可能要比對一下背景壓力、鍍率等等 D2y[?RG 18HmS>Qo

rexchou	2018-02-01 17:46
奔跑的小骏马:DBR是什么意思啊？你做的高反膜是用的啥膜料？ (2018-01-29 09:51) z[sP/{~z fZtuP1-4 鍍膜的DBR就是介電質的反射鏡 ,+>JQ82 h]jy):9L 主要利用高低折射率1/4波長去堆疊而成 ?/1Eu47 v,d bto0 會依照每個客戶針對的波長去做設計 >+FaPym JC.nfxG@: 可應用在LED 激光等等

ouyuu	2018-02-02 09:16
怀疑是排气能力差异。 _*.ImD 开镀真空一样吗？都开充氧了吗？充氧压力多少？

dcfcwdx	2018-02-03 08:19
好的，谢谢～

dcfcwdx	2018-02-03 08:21
开镀真空一样，充氧压力为1.93E-2Pa

ouyuu	2018-02-03 18:13
如果有空的话，两台机各镀一下单层，然后测一下PEAK比对一下。 GO]5~4k 一般SiO2折射率比较稳定，既然有充氧，吸收也不太会有问题。 +pY--5t 问题很可能出在TiO2上。TiO2的折射率和吸收不太稳定。 !dV2:`\|+

dcfcwdx

2018-03-03 22:41

ouyuu:如果有空的话，两台机各镀一下单层，然后测一下PEAK比对一下。 LKBh{X0%(
一般SiO2折射率比较稳定，既然有充氧，吸收也不太会有问题。 0ev='v8?
问题很可能出在TiO2上。TiO2的折射率和吸收不太稳定。 P1^O0)
(2018-02-03 18:13) *j<{3$6Ii

单层的PEAK对比过，确实是有差异的，关键是怎样调节折射率和吸收呢？

dcfcwdx	2018-03-03 22:44
ouyuu:怀疑是排气能力差异。 L c )i 开镀真空一样吗？都开充氧了吗？充氧压力多少？ (2018-02-02 09:16) _.E{>IFw U}-Y 开镀真空一样，都是2E-3Pa，都开充氧了，目前最主要问题是稳定性不好，有些Run次镀出来是OK的，有些就不好，不知道是哪里造成的稳定性差

ouyuu	2018-03-06 13:05
dcfcwdx:[表情]单层的PEAK对比过，确实是有差异的，关键是怎样调节折射率和吸收呢？ (2018-03-03 22:41) X\|/RV4x@Cq x^ `IZ{! 是什么差异呢？整体向上偏移？还是波峰更高，波谷更低？ w{u,YM(Q 如果是吸收，那就改善充氧。 :R3iLy 如果是折射率差异，那就改变蒸发速率。 kr@!j@j$

dcfcwdx	2018-03-13 20:40
ouyuu:是什么差异呢？整体向上偏移？还是波峰更高，波谷更低？ -ah)/5j 如果是吸收，那就改善充氧。 `IJ)'$pn 如果是折射率差异，那就改变蒸发速率。 2VUN (2018-03-06 13:05) k.2GIc:5 Q[aF"5h% 镀TiO2单层来比较是，较差的机台的波峰低，波谷高，也就是峰谷差小，还有，改善充氧就是改变APC压力吗？

ouyuu	2018-03-15 23:35
dcfcwdx:镀TiO2单层来比较是，较差的机台的波峰低，波谷高，也就是峰谷差小，还有，改善充氧就是改变APC压力吗？ (2018-03-13 20:40) S.`hl/ BNA1"@9q 看起来像是折射率问题。 g.blDOmlc 你这边用离子源辅助吗？ i%F2^R@!q/ 如果有，就改变一下离子源参数 -P-8D6 如果没有，就改一下电子枪速率看看。

奔跑的小骏马

2018-03-23 11:51

ouyuu:看起来像是折射率问题。 ]TUoXU2<x
你这边用离子源辅助吗？ UM`$aPz
如果有，就改变一下离子源参数 pFiE2V_aS
如果没有，就改一下电子枪速率看看。 (2018-03-15 23:35) fhRu-

既然是折射率差异，那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么；如果要变更速率，那折射率不也一样跟着变了，变量不就多了么。

yifeng602	2018-03-26 07:02
"R-j 机台不一样，折射率是有差异的，这个差异在镀膜厚是就明显

ouyuu

2018-03-27 09:23

奔跑的小骏马:既然是折射率差异，那就直接按照两台机各自的折射率重新设计一下膜系不就好了么；如果要变更速率，那折射率不也一样跟着变了，变量不就多了么。 (2018-03-23 11:51) (5y*Btd=

一般不建议改膜系，膜系不一致会带来更多问题。
而且随着设备使用，说不定折射率还会变的，你就不停改膜系？
折射率则简单很多，找到影响折射率的因素这才是关键。

其实也不叫变更速率，水晶设置有一项叫TOOLING，这个TOOLING值改变一下就相当于改了速率。

qinshuai	2019-01-09 15:04
现在膜系成熟了没有？？

查看本帖完整版本: [-- 高反膜机差问题 --] [-- top --]