如下要求,基片为晶体, "Q@ZS2;A
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% #6<9FY#
'xp&)gL
wq&TU'O
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% ~v<,6BS<$Z
\=/^H
~cx/>Hu
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 m)9qO7P
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 (Sg52zv
配置的设备才能做出来,谢谢