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    [讨论]关于lighttools里面BPO布点能否加入初始位移量 [复制链接]

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    离线heshuhon
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2013-08-12
    用lighttools做个背光源,要求双面出均匀光,布点时候直接用BPO布点了,发现双面布点没法加入初始位移,使得两面点大小相同密度相同但错开一个点位 ?p'DgL{  
    正反两面都用hexagonal分布圆点,反射和透过都写50%,split ray,问BPO能否在不移动我初始布好的点位置情况下仅优化点大小? Yv/T6z@  
    目前是希望BPO在我设定的固定点位置上优化大小不希望他动到点的位置,这样怎么处理? l{mC|8X  
    求高手 ( u^`3=%n  
    另外同时优化双面出光斑时能不能把两个评估函数整合到一起,优化每一面的光板都对两面的综合情况进行优化? IBz)3gj J  
    求高手啊~
     
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    离线hahahahk
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    只看该作者 1楼 发表于: 2013-09-30
    只改变点大小不改变位置的设置如下: fhQ}Z%$  
    {DGnh1  
    ]Saw}agE[%  
    优化同时考虑两个面的设置如下: e!O:z   
    离线zincwang
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    只看该作者 2楼 发表于: 2014-01-14
    回 hahahahk 的帖子
    hahahahk:只改变点大小不改变位置的设置如下: #)xg$9LQb  
    [图片]
    优化同时考虑两个面的设置如下: XiB]I5(hcc  
    [图片] (2013-09-30 17:20)  br9`77J8  
    HBFuA.",  
    谢谢,好棒