用lighttools做个背光源,要求双面出均匀光,布点时候直接用BPO布点了,发现双面布点没法加入初始位移,使得两面点大小相同密度相同但错开一个点位 8EkzSe
正反两面都用hexagonal分布圆点,反射和透过都写50%,split ray,问BPO能否在不移动我初始布好的点位置情况下仅优化点大小? s*
u1n+Zq
目前是希望BPO在我设定的固定点位置上优化大小不希望他动到点的位置,这样怎么处理? &+(D< U
求高手 k4<28
另外同时优化双面出光斑时能不能把两个评估函数整合到一起,优化每一面的光板都对两面的综合情况进行优化? )N~ p4kp
求高手啊~