苹果公司“光学测量系统中的去斑”专利公布

发布:cyqdesign 2024-03-26 16:51 阅读:226

据国家知识产权局公告,苹果公司申请一项名为“光学测量系统中的去斑”,公开号CN117760960A,申请日期为2023年9月。

专利摘要显示,本公开涉及光学测量系统中的去斑。实施方案涉及在测量期间利用多个发射器来发射光的光学测量系统,以及使用这些光学测量系统来执行测量的方法。该光学测量系统可包括:光产生组件,该光产生组件被配置为经由光源单元产生光;以及光子集成电路,该光子集成电路包括发射组,该发射组具有多个发射器。这些发射器中的每个发射器光学地耦接到该光产生组件以接收从该光产生组件产生的光,并且可从该光子集成电路的表面发射该光。该光学测量系统可执行测量,其中该光产生组件产生光并且该多个发射器中的每个发射器同时地发射从该光产生组件接收的光。

关键词: 光学测量
分享到:

最新评论

我要发表 我要评论
限 50000 字节
关于我们
网站介绍
免责声明
加入我们
赞助我们
服务项目
稿件投递
广告投放
人才招聘
团购天下
帮助中心
新手入门
发帖回帖
充值VIP
其它功能
站内工具
清除Cookies
无图版
手机浏览
网站统计
交流方式
联系邮箱:商务合作 站务处理
微信公众号:opticsky 微信号:cyqdesign
新浪微博:光行天下OPTICSKY
QQ号:9652202
主办方:成都光行天下科技有限公司
Copyright © 2005-2024 光行天下 蜀ICP备06003254号-1