福晶科技“一种表面超高损伤阈值的抛光加工装置及方法”专利公布

据国家知识产权局公告，福建福晶科技股份有限公司取得一项名为“一种表面超高损伤阈值的抛光加工装置及方法”，授权公告号CN114789378B，申请日期为2022年5月。

专利摘要显示，一种表面超高损伤阈值的抛光加工装置及方法，该方法在于，将玻璃工件粘结在粘结盘上，选用纳米级磁流变抛光液作为磨料悬浮液，以一定的压力注入抛光容器主体中，在玻璃工件与微孔结构抛光模之间存在液膜，驱动粘结盘使得悬浮在纳米级磁流变抛光液的玻璃工件以一定速率进行旋转，同时，利用垂直方向的磁场驱动抛光液进行缓慢蠕动，使得玻璃工件在长时间内进行切向蠕动摩擦以进行抛光。本发明将机械抛光与磁流变抛光相互结合，经过长时间的切向蠕动摩擦抛光，达到去除光学亚表面损伤的目的，抛光模采用微孔结构的聚氨酯或者绒布，并进一步在抛光模的表面沿着磁场方向开横线阵列槽，方便抛光液在磁场的作用下，沿磁场方向定向运动。

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