. 建模任务 XPo'iI- 1.1
模拟条件
@M^QhHs 模拟区域:0~10
bk9~63tN+> 边界条件:Periodic
Z*)Y:tk)b 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
"sX?wTag 单位长度:0.5
jI<WzvhYG
aq/Y}s? WTv\HI2X
! 1.2堆栈
结构 dS_)ll.6z NZW)X[nXM 2. 建模过程 <L
( = 2.1设置模拟条件
=1OAy`8
*Q120R 4?M3#],'h 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 :fKz^@mY4 C{i;spc!bi =&:f+!1$ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
4U;XqUY
/ IBNQmVRrI 3. 结果分析 2$W,R/CLh 3.1 指向矢分布和透过率
'Qq_Xn8 cPaWJ+c r5da/*G/O 3.2所有畴的V-T曲线
L0|hc -Dq:Y,%q 4|41^B5Y 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
bKMR7&e.Ep