上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布

发布:cyqdesign 2023-11-28 11:50 阅读:1211
11月28日,上海微电子装备(集团)股份有限公司公开了其最新的光刻机相关专利 23 j{bK  
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据天眼查显示,上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。申请日期是2022年5月19日,公布日期是​2023年11月28日。 ,#3u. =IR[  
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天眼查专利页面截图
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该专利摘要显示,本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机,所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括:第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。 其中,所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称,所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称,所述投影物镜光学系统是对称结构,且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度,以此可以在提高成像质量的基础上,增大曝光系统的视场尺寸,提升产率。 FjF:Eh  
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投影物镜光学系统结构图
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最新评论

likaihit 2023-11-29 00:13
实物在哪里
redplum 2023-11-29 00:14
这个很有意义
tassy 2023-11-29 00:59
関注微电子投影物镜光学系统及光刻机
phisfor 2023-11-29 07:02
上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
星空38 2023-11-29 07:50
上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”
wangjin001x 2023-11-29 08:03
上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
liulin666 2023-11-29 08:17
上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布 @ -pi  
雨后无文 2023-11-29 08:20
有意义
牛开心 2023-11-29 08:37
上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公布
wmh1985 2023-11-29 08:39
本发明提供了一种投影物镜光学系统及光刻机,所述投影物镜光学系统沿其光轴方向从物面到像面依次包括:第一透镜组、第二透镜组、光阑、第三透镜组与第四透镜组。 其中,所述第三透镜组与所述第二透镜组关于所述光阑对称,所述第四透镜组与所述第一透镜组关于所述光阑对称,所述投影物镜光学系统是对称结构,且所述投影物镜光学系统中所有的透镜组均具有正光焦度,以此可以在提高成像质量的基础上,增大曝光系统的视场尺寸,提升产率。
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