晶合集成申请“光学邻近修正方法及系统”专利

近日，据国家知识产权局公告，合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“光学邻近修正方法及系统”，公开号CN117111400A，申请日期为2023年10月。 XR&*g1  
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专利摘要显示，本申请涉及一种光学邻近修正方法及系统，方法包括：获取初始版图图形，其包括至少一个目标边，并在目标边沿第一方向远离初始版图图形的一侧添加散射条；其中，第一方向与目标边的延伸方向垂直，散射条的延伸方向与目标边的延伸方向相同；通过设计规则检查语法检测与初始版图图形邻接且共用目标边的目标区域内是否具有与目标边对应的散射条；若否，则检测目标区域内是否具有除了与目标边对应的散射条之外的散射条；若否，则检测离目标区域最近的散射条与目标区域的最小距离是否达到预设冲突距离；若位于预设冲突距离之内，则判定散射条的添加无遗漏；反之，则判定有遗漏。上述方法能够提高检测的准确度及光学邻近修正的效率。