价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 jhGlG-^
课程共三十节 s 1ge0~p3
课程简介：
,zQOZ'^ 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
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MC~ 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
npDIX 课程大纲：
#n 1. 软件基础入门
phYDs9-K 软件简介
#u5~0,F 软件计算方法简介
F=)&98^v$_ 程序基本框架和全局
参数设置
f7hXQ|$ 程序中使用的各种术语的定义
QR>
Y%4 ;h 
W0zbxJKjd 2. 图表
d vOJW". 绘图和制表来表示性能
` r ']^
, 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
6] z }# " 交互式绘图的使用
vU*x2fVb} 3. 材料管理
ir:d'g1k 材料的获取
{C^@Q"I 材料的导入与导出
_ J]2~b 材料数据平滑与插值
@ 2_<,;$ 用包络法推导介质膜的光学常数
up%Z$"Y 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
gLL\F1|0x 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
[WB{T3j 4. 薄膜设计与优化简介
2uk x (Z
优化与合成功能说明
1j\aH&)GH 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
Sg]
J7;] 膜层锁定和链接
8V$ 3b?] 减反膜优化
~SjZk| 高反膜优化
-Y:ROoFOZ 滤光片优化
IC{F.2D 斜入射光学薄膜
,}C8;/V 5. 反演工程
S^f:`9ab9 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
} '=h 4yI 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
Ae?e 70bY 6. 分析工具
fA^7^0![ 颜色模型和分析工具
2N~ E' 25 公差工具和良品率预估
n ~Szf 灵敏度分析
WjM>kWv 7. 附加模块-Vstack
QMk+RM8U 非平行平面镀膜
Y'Z+, CNf 棱镜镀膜透反吞吐量评估
=!ac7i\F 8. 附加模块-DWDM
{$^SP7qV#> 光通信用窄带滤光片
模拟 fw{,bJ(U 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
y~F<9;$= 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
,vG<*|pn 镀膜沉积过程噪声信号模拟
5]7&IDA]]9 10. 附加模块-Function
)Hf~d=GG 如何在Function中编写脚本
vN{- ?
案例：自定义画图
?Ay3u^X 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
1.R
kIB 案例：膜厚变化颜色变化
