价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 LKFL2|af
课程共三十节 }I9\=jT
课程简介：
a&M {y 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
iw1 2x: 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
km4::'(6 课程大纲：
A #f@0W: 1. 软件基础入门
Pv +[N{ 软件简介
39BGwKXb 软件计算方法简介
w-"o?;)a 程序基本框架和全局
参数设置
q;InFV3rv 程序中使用的各种术语的定义
`$fwLC3j 
Cn[`] 2. 图表
PGOi#x 绘图和制表来表示性能
Kisd.~u8j 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
5kofO 交互式绘图的使用
e{>X2UNW 3. 材料管理
qR- -lvO 材料的获取
qWfG@hn 材料的导入与导出
?s dVd 材料数据平滑与插值
BI3Q~ADV 用包络法推导介质膜的光学常数
#y~ ^!fdp9 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
>s1'I:8 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
CY <,p$ 4. 薄膜设计与优化简介
w<| ^i* 优化与合成功能说明
>u4%s7 v 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
%S]H 膜层锁定和链接
@K7#}7,t 减反膜优化
q1;}~}W;z4 高反膜优化
0-oR
{
{ 滤光片优化
qHt!)j9GKv 斜入射光学薄膜
H $ 9--p 5. 反演工程
3tMs61 3 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
$ o?Wum 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
D ?1$I0 = 6. 分析工具
XnHcU=~q 颜色模型和分析工具
\`Db|D?oy 公差工具和良品率预估
7q<I7Wt 灵敏度分析
}:5AB93( 7. 附加模块-Vstack
I!%T!B540 非平行平面镀膜
!=;^Grv> 棱镜镀膜透反吞吐量评估
4=9To|U* 8. 附加模块-DWDM
%fGS< W; 光通信用窄带滤光片
模拟 U+3,(O 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
cE
'`W7&A 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
>?ZH[A 镀膜沉积过程噪声信号模拟
Dt0S"`^=k 10. 附加模块-Function
=toqEm~ 如何在Function中编写脚本
)@DH& 案例：自定义画图
)2C_6eR 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
;;pxI5 案例：膜厚变化颜色变化
