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摘要 b!]O]dk# BA c+T VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 ChTq !W 9 8|sWI3B !0,q[|m [f_^BU& 介质目录中的斜光栅介质 lV$JCNe LL#REK|lm8 2R&\qZ< ']1n?K=A 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 =y][j+WH 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 W#F9Qw =~+ WJN 斜光栅介质的编辑对话框 VvyRZMR Kyh>O)"G^% %]4Tff Xf`e 4 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 ..}P$ 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 bTum|GWf 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 =P(*j7= 斜光栅介质的编辑对话框 L!cOg8Z Iq+N0G<j sUG!dwqqd XQy`5iv 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 v&d1ACctJ 以下参数可用: 0vv~G\yM - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) 7 9tE - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) "
@D - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) (.4lsKN< - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) )=5&Q %hVR|K|J 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 YbZbA >| }X)vktE+| 斜光栅介质的编辑对话框 N9w"Lb AQ'%}(#0 4'O,xC p[Po*c.b 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 FP=B/!g 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 K7RAmX QC+
Z6WS; 斜光栅介质的编辑对话框 ,31 ?
Aa `dvg5qQ {+J{t\` *JJ8\R&P0 &e^;;<*w 首先,必须选择涂层材料。 _*o<<C\E 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 MfL7|b) 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 1B;2 ~2X Dj\nsc@e3 斜光栅的编辑对话框 Vm%G
q c""&He4zp /yI4;:/ &E&~9"^hQL qX@e+&4P0 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 !UoA6C: 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 EVPQe- l 2Sar1~1 堆栈使用的评论 G0
)[(s WGv 47i x9 > ho =o9s?vOJ NW[K/`-CTH 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 B'yjMY![
一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 _.JQ h 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 ogFo/TKM 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 l2LQV]l )gdeFA V 斜光栅介质的采样配置 U"r*kO% X~r9yl> 斜光栅介质采样 $\u\4n !{-W%=Kf LQ~|VRRX< 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 <O+GXJ2 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 4!/QB6 在右边,显示了介质的预览。 Tksv7*5$ 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 *HD(\;i-$ 4FaO+Eo,8 WHE<E
rV% *F( qg%1+ 采样斜光栅#1 B!+c74 4np2I~ ! pb97S^K[ 5ngs1ZF@ 采样斜光栅#2 &oMEz 0 \aJ>? "bej#'M# `/WxEu3 采样斜光栅#3 E{V?[HcWq |cC3L09 [k
7HLn) YIk@{V 采样斜光栅#4 Z RjM^
d; qXtC7uNj$ . gy:Pl]w W7!Rf7TK 文档信息 ,It0brF 9po=[{Bp h>V6}(~;. 76T7<.S vL _yM QQ:2987619807 B6F!"
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