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摘要 KI$?0O qB7.LR*' VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 T_, LK7D ~/\;7E{8! m{x!uq X?Omk, ' 介质目录中的斜光栅介质 5<a)SP 0 _?@>S 7- H U$:x"AW ,q/K&'0` 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 CQ"IL;y 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 9))%tYN E[htNin.B~ 斜光栅介质的编辑对话框 ?YgK]IxD Y.i<7pBt ^=D77 jS eJ%~6c`@! 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 %o#D" 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 rQ*'2Zf'< 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 B{/Pv0y 斜光栅介质的编辑对话框 ~?-U
J^# |RAi6;
q&Q* gEFK }PyAmh$@ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 9T|7edl 以下参数可用: R.|fc5_"+ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) J`} /+WN 7 - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ?$;_a%v6 - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) ,Xk8{= - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) \E?1bc{\f C+r--"Z 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 WqY:XE+?\ yKOf]m># 斜光栅介质的编辑对话框 U`:#+8h-} dm.?-u;C z=>]E1'RL V)Z*X88:Tv 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 j^iH[pN] \ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 N_q7ip%z >S5D-)VX 斜光栅介质的编辑对话框 !j %)nU SY <!-g<1F s.C-II?e !pw%l4]/t $hndb+6q 首先,必须选择涂层材料。 :
[aUpX= 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 \~jt7 Q 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 bMkn(_H)\ '$1-A%e$1 斜光栅的编辑对话框 t
~U&a9&Z _rs!6tp cy^6g?ew Yq`r>g c4L5"_#`x- 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 .yi.GRk 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 nsw.\(# a2Q9tt>Q 堆栈使用的评论 ,!%[CpM3 G0> 'H1 Z tPC8/ntP8 jW2z3.w
6=A++H@ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 :$/lGIz 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 +Z)||MR" 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 <diI*H<G 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 $Xz9xzOR cQgmRHZ] 斜光栅介质的采样配置 4d0PW#97. G:u[Lk#6K 斜光栅介质采样 HewVwD<C rm3~] f} }Bb8 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 H -.3r 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 MfeW| 在右边,显示了介质的预览。 Lk#u^|Eq7= 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ,E)bS7W N ?V5gi j]Rl1~+M SGNi~o 采样斜光栅#1 a5Xr"- t4h05 i <Er|s^C qx0J}6+NlU 采样斜光栅#2 v8 6ls[lzu QhpE 2ICU v`y{l>r, tBrd+}e2* 采样斜光栅#3 7OC,KgJ3 {_^sR}%]F <0R?#^XBZB `Ph4!-6# 采样斜光栅#4 8.Y6r [.Kia
> nfrC@Av l<7 b 文档信息 PJA 1/" J"6_H =s zUwz[^d<C VWLou
jB TO( =4;U QQ:2987619807 N<N!it
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