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摘要 &vovA} F "Pl9 nE VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 yIb,,!y9{ cV-1?h63 hfcIvs/! -AYA~O(& 介质目录中的斜光栅介质 1shBY@mlq Uu 7dSU ?%O3Oi Xz Wy]^Ub gW 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 f(D_FTTO 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 pr,p=4m{\ CU:o*;jP 斜光栅介质的编辑对话框 Ro=AADv@ `O^G5 0 ^+SkCO q@hp.(V 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 !TAp+b 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 f&4,?E;6% 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 LwuF0\ 斜光栅介质的编辑对话框 %~NH0oFO J
wm T/ )R_E|@" nH !3(X* 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 O;HY% 以下参数可用: qW_u - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) S<nq8Ebmw - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ^")F7`PF - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) fU2qrcVu - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) Ovw[b2ii @OV-KT[> 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 zHfP+(ah kHc<* L_V 斜光栅介质的编辑对话框 /q\_&@ ~Z$bf>[(R7 (IbW;bV f DgD@YC D 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 w(nHD*nm 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 I/x iT (/" & 斜光栅介质的编辑对话框 V+wH?H= IB9%QW"0 mT*{-n_Zs }iBC@`mg( Cup@TET35 首先,必须选择涂层材料。 SKY*.IW/Z 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 N?4q 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 ;P?q2jI d6 _C"r 斜光栅的编辑对话框 >x:EJV ^b?2N/m@ ,je`YEC |f2A89 g+zJ? 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 $<)Yyi>6E 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 E^ h=!RW{ $<?X7n^ 堆栈使用的评论 pF=g||gS I12KT~z<r -[#n+`M 1ywU@].6J] u~ F;xQ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 WNa0, 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 s0LA^2U 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 T*q"N?/4 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 iT)WR90 _EYB
8e 斜光栅介质的采样配置 IvBGpT"(I V`a+Hi<P\ 斜光栅介质采样 KAA3iA@>+ q{4|Kpx@ t)1phg4H) 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 ~0tdfK0c 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 F#q&( 在右边,显示了介质的预览。 zDBD .5R; 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 a,Kky^B aSnp/g 7$T8&Mh \MYU<6{u 采样斜光栅#1 z)L}ECZh9 :
1)}Epo, wgd<3 X cz.3|Lby 采样斜光栅#2 oFg'wAO. .5hp0L} Wpm9`K c]m! G'L_/ 采样斜光栅#3 A]y*so!)> /#q")4Mf bejGfc $Lq:=7&LRn 采样斜光栅#4 =Lw3
\5l $iJnxqn @&R1wr1>I5 U}P,EP%p 文档信息 Jh2Wr!5 :I/ j 2}v} yz)ESQ~va =:5<{J OG QQ:2987619807 !UNNjBBP7
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