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摘要 c uHF^l _3q}K VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 %#E$wz K7wU
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^m -w@0^z u]&+TR 介质目录中的斜光栅介质 OuyO_DSI Hd_,`W@
qD,/Qu62 "b\@.7". 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 XzPUll;ZU 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 g1) ZjABV mnFmShu 斜光栅介质的编辑对话框 +QeA*L$~ 3 5/ s\ s\0,@A >tm4Rg~y 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 %$67*pY'JH 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 rTim1<IXR 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 d2Ta&Md 斜光栅介质的编辑对话框 ywA7hm HJt
'@t=Ak
AYfL}X<Ig b"w@am>& 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 5-UrHbpCZ# 以下参数可用: D/+l$aBz - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) f(
<O~D - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) K?>sP%m) - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) co-1r/
-O - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) V,]Fh5f 4<Kxo\\S 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 FmgMd)# WAJKP" 斜光栅介质的编辑对话框 jtgj h\Nt :"cKxd
S2>$S^[U MhIHfW]b 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 -K/c~'%'* 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 yJMo/!DZ @TJ 斜光栅介质的编辑对话框 Xh }G=1} P3v4!tR H'Jz:6 yatZAl(B U^]@0vR 首先,必须选择涂层材料。 m$7C{Mr' 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 P_)=sj!>- 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 MeV*]* H~bbkql 斜光栅的编辑对话框 )>@%;\qV Hz%<V*\{
Pk=0pHH8q /4|_A {m{m ZO>)GR2S 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 <r
m)c. 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 w:x[kA $:&b5=i 堆栈使用的评论 WJMmt XO Q7\j:.
s\p 1EL( HVK0NI `26.+>Z7 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 v#e*RI2} 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 uPE Ab2u=" 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 |(CgX6 l3 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
V Ds0+RC {a15s6'd 斜光栅介质的采样配置 x+b.9f4xJ (LJ7xoJ^ 斜光栅介质采样 *X^C+F +O^} t Gte\=0Wr 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 Ihv@2{*(b 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 D
!{e 在右边,显示了介质的预览。 CeM%?fr5 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 }pGjc_:'] "=LeHY=9
r! [Qpb-: )0g!lCfb 采样斜光栅#1 p,!IPWo &WOm[]Q4
Pq@-`sw ?bg
/%o 采样斜光栅#2 &3 Ki #Nad1C/]
<$d2m6 J _>;{+XRX[ 采样斜光栅#3 Z4E6J'B8 1hzf+*g T Qx<lw f1sp6S0V\ 采样斜光栅#4 2cSc
8 y]+[o1]-c V]m}xZ'?^ |gHdTb1 文档信息 ,_s.amL3O{ %~kE,^
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