主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: N vHy' • 定义MMI耦合器的材料; Rn(F#tI • 定义布局设定; A|_%'8 • 创建一个MMI耦合器; ;
9&.QR( • 插入输入面; {R!TUQ5 • 运行模拟; 0*IY%=i • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 V'f5-E0 B
m@oB2x) 1. 定义MMI耦合器的材料 'a/6]%QFd! 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: zHc 4e
1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ b;`#Sea DD6`k*RIk. 图1.初始性能对话框
r]//Q6|S 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” C+]q f.84=epv 图2.轮廓设计窗口
NT9- j#V 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 X`v79`g_
u:H 3.5)% VmH_0IM^6 图3.电介质材料创建窗口
aco}pXz 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: lyH X#] − Name : Guide QRZTT qG − Refractive Index (Re) : 3.3 RQ)!KlY − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 2\CkX L5qCv -{ 图4.创建Guide材料
awSS..g}L 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: $s(4?^GP − Name : Cladding y7IbE − Refractive Index (Re) : 3.27 ]7R&m)16 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 `_g?y) $h]Y<&('G 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 &0
)xvZ
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: Rw
ao5l=x − Name : Guide_Channel >?{iv1 − 2D profile definition: Guide L[D/#0qp − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 qfP"UAc{/ ~SR(K{nf#. 图6.构建通道
2. 定义布局设定 ;]oXEq`
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: <j1d~XU}
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 id#k!*$7
− Width:2.8 w{zJE]7
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 Rqb{)L
X*
− Profile:Channel-Guide 6|9g4@Hy
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
Puth8$
cxP9n8CuT
2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: r@ T-Hi
− Length:5300 bUAR<R'E
− Width:60 DtJTnvG~B
图8.设置晶圆尺寸
rPo\Dz
THbtu*El
3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: #EQx
− Material:Cladding z7t'6Fy9'
− 点击OK以激活布局窗口 %+7T9>+
图9.晶圆材料设置
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yjOu]K:X
4) 布局窗口 &8X
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图10.默认情况下布局窗口显示
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5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: ].k+Nzf_
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 dY4k9p8
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 22al
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 'Ffy8z{&3
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 )O2Nlk~l&
图12.最终布局显示
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3. 创建一个MMI耦合器 7|+|\7l#
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: ^6)GS%R
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 I9[1U
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 (
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图13 .绘制第一个线性波动
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QQ:2987619807
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