[求助]ZEMAX多重结构编辑问题 [复制链接]

大哥们，我正在用zemax仿真搭建一个干涉仪，用于子孔径拼接干涉测量大口径非球面。在分光镜处使用多重结构编辑后，测量光路的编辑同样出现在了参考光路中，请问要怎样使测量光路和参考光路分离开来，可以独立编辑。也是刚接触ZEMAX软件，各位大哥指点一哈！！ H^dw=kS  
"MK2QIo  
x.$cP  
SYh>FF"  
ss6{+@,  
6uTC2ka[&R  
-q8l"i>h=  
dc0&*/`:  

学会就睡觉:请问具体应该怎么做呢 *B\ @L  
 (2022-07-31 19:57)  V;^N:I\js  

U&{w:P  
我近期也在做这一方面的仿真，楼主说的意思我是这样理解的，一种情况是测量光路的编辑出现在了参考光路，想独立编辑，但按道理就是图1的方法，使用多重结构操作数分别设置（THIC）厚度、(CRVT)曲率等,但我看楼主这个图测量光路有些面（图中是标准镜组），比如待测面，参考光路并不需要这个面，所以这种情况可以考虑把不需要的那个面材料删掉，等于空气，或者参考IGNR这类操作数（忽略某个表面），对于我说的第二种情况可以参考ZEMAX自带的干涉仪案例。

学习学习下

我也想学习学习

楼主解决问题了吗

后续镜头全部由多重组态编辑。

我也想知道如何做

希望楼主早日解决问题 SK&1l`3  

干涉仪做出来了嘛？ ZREy I(_  

帅的被人砍:后续镜头全部由多重组态编辑。 (2019-05-30 20:51)  Wnp[8IEU  

1cMdoQ  
请问具体应该怎么做呢 =>Z4vWX*