2023光学培训系列·第二届微纳制造技术高级培训班

（二）纳米光子学基础与应用——王钦华，教授，苏州大学

1. 纳米光子学基础与进展

2. 显示技术/结构色与纳米结构

3. 高/超分辨率平面成像技术

4. 超材料（metamaterials）与光场（电磁波）调控

5. 柔性光电子与可穿戴器件

6. 纳米制造与超衍射极限光刻技术

7. 纳米光子技术的机遇与挑战

（三）III族氮化物半导体材料及其在光电领域的应用进展——徐科，研究员，苏州纳米所

1. 光电材料及III族氮化物的基本性质 

2. III族氮化物半导体材料的应用进展 

3. 氮化镓材料的生长制备技术 

4. 第三代半导体在苏州的发展现状 

5. 总结与展望

（四）微纳结构分析和表征——苏旭军，研究员，中科院苏州纳米所

1. 电子光学基础理论

(1) 电磁透镜与阿贝成像原理

(2) 波动光学基础

(3) 波动力学基础

2. FIB和TEM技术及其在半导体分析中的应用

(1) 透射电子显微术（S/TEM）及其应用

(2) 聚焦离子束（FIB)双束电镜及其应用

(3) S/TEM-FIB在半导体材料、器件及失效分析中应用

（五）光刻技术与应用——浦东林，研究员，苏州大学

1. 微纳制造技术概况与光刻

2. 激光直写光刻技术及本学院成果

3. 直写光刻的应用与本学院成果

4. 直写光刻技术发展与应用展望

（六）3D显示及关键技术——乔文，教授，苏州大学

1. 近眼3D显示技术

(1) VR近眼显示

(2) AR近眼显示

2. 远屏3D显示技术

(1) 眼镜式

(2) 裸眼3D显示

(3) 体三维显示

(4) 全息显示

3. 纳米光场光刻、激光直写、微纳3D打印在3D显示中的解决方案

4. 衍射波导HUD的研究与探讨