光学表面分析仪已成为精密制造工具
非破坏性测量技术正在走出实验室,进入工厂,对薄膜和其它复杂的镀膜进行实时评估。
在微电子、生物医学等许多产业中,了解现代材料的光学表面性质已经成为生产的关键组成部份。 随着制造过程和产品复杂程 ..
Hilfiker说:“当某些东西真正变得非常薄时,其它的分析技术就会土崩瓦解,但分光椭偏测量术则可用来测量相位信息,这种信息对小于10纳米的薄膜来说是非常重要的”。
综合光学表面分析仪 一些仪器开发商相信:提供更多表面或镀膜信息的最好办法是把几种技术综合在一起,主要理由是:不同缺陷产生的信号,容易被一种光学技术探测,但采用另一种技术时,却很难发现1。例如,表面光度仪能发现小丘,或透明晶片上的类似问题,但沾污只能用椭偏计或反射计探测。同样地,散射计不能探测的浅坑,用椭偏计却能清楚地探测出来。 这是Candela Instruments(Fremont, CA; now a division of KLA-Tencor)综合光学表面分析仪(OSA)的主要设计思想。将OSA、椭偏计、反射计、散射计和光学轮廓计组装在一个光学头内,就可以同时测量许多表面缺陷,并对它们进行分类。 在这个OSA中,有一个激光器,它产生的激光束沿大入射角的方向传播, 允许它与衬底表面发生相互作用,并从表面反射(或散射)出来。反射光束进入光学轮廓计、反射计和椭偏计通道。散射光束通过积分球探测。此外,OSA还用一个空间滤波器来阻止从透明晶片背面反射回来的信号,使OSA只能看到透明晶片上表面的缺陷。这一技术已经成功地用来探测和分类坑、突起、沾污、擦伤、微粒和晶体缺陷(见图3)。据Candela的技术副总裁Steven Meeks说:OSA能检查透明晶片,这种透明晶片被广泛用于高亮度LED、激光二极管和下一代集成电路, 如在混合汽车、雷达系统和电源中使用的集成电路。 在蓝宝石上的GaN层中,某缺陷的镜面反射像(上图)放射状形貌图(下图)。它们表明:衬底里面的裂缝已经影响到外延生长。 镜面反射信号随该层光学性质的变化而变化,从而引起干涉条纹。拓扑信号随表面高度变化而变,它表明缺陷中心有一个坑,缺陷的直径约为1.5毫米。 他说:“这是一个多功能工具,一些用户测量形貌以确定衬底的粗糙程度,而另外一些用户则对微小管道感兴趣,如表面有多少微管,以及它们如何分布等。但是,在数据存储、缺陷探测和过程控制领域,这种仪器已经变成了一种标准设备,化合物半导体工业也有同样的需要。人们可以从同样的检测技术中受益:改善工艺过程,提高产量”。 |
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